PLASMA RESISTANT COATING, RELATED PRODUCTION METHOD AND USES

A method of producing coated substrates resistant to plasma corrosion and a related coating are provided. The method comprises depositing, over at least a portion of a substrate, an yttrium-containing plasma resistant coating through a process of chemical deposition in vapour phase, preferably, through Atomic Layer Deposition (ALD). In some configurations, the plasma resistant coating is formed with a mixture film composed of a mixture of an aluminium oxide compound and an yttrium oxide compound, for example. In some instances, a multilayer laminate structure comprising said mixture films alternating with deposition films composed of a metal fluoride compound is formed. A coated component for use in a plasma processing apparatus and a method for improving resistance of a substrate to plasma corrosion are further provided. L'invention concerne un procédé de production de substrats revêtus résistant à la corrosion par plasma et un revêtement associé. Le procédé comprend le dépôt, sur au moins une partie d'un substrat, d'un revêtement résistant au plasma contenant de l'yttrium par l'intermédiaire d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur, de préférence, par dépôt de couche atomique (ALD). Dans certaines configurations, le revêtement résistant au plasma est formé avec un film de mélange composé d'un mélange d'un composé d'oxyde d'aluminium et d'un composé d'oxyde d'yttrium, par exemple. Dans certains cas, une structure stratifiée multicouche comprenant lesdits films de mélange en alternance avec des films de dépôt composés d'un composé de fluorure métallique est formée. L'invention concerne en outre un composant revêtu destiné à être utilisé dans un appareil de traitement au plasma et un procédé pour améliorer la résistance d'un substrat à la corrosion par plasma.