USE OF SIGNAL FILTERING SCHEMES IN HIGH TCR BASED CONTROL

A controller to control a temperature of a first substrate support in a substrate processing system includes a resistance calculation module to calculate a first resistance of a first heater element of a plurality of heater elements of the first substrate support, a temperature calculation module to...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CHANDRASEKHARAN, Ramesh, THILAGARAJ, Mohan, LEESER, Karl Frederick
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A controller to control a temperature of a first substrate support in a substrate processing system includes a resistance calculation module to calculate a first resistance of a first heater element of a plurality of heater elements of the first substrate support, a temperature calculation module to calculate a first temperature of the first heater element based on the calculated first resistance, and a filter module to filter a first signal that corresponds to the calculated first resistance. The temperature calculation module selectively causes the filter module to filter the first signal in response to a determination of whether at least one condition associated with operation of the substrate processing system is met. Un dispositif de commande pour réguler une température d'un premier support de substrat dans un système de traitement de substrat comprend un module de calcul de résistance pour calculer une première résistance d'un premier élément chauffant d'une pluralité d'éléments chauffants du premier support de substrat, un module de calcul de température pour calculer une première température du premier élément chauffant sur la base de la première résistance calculée, et un module de filtre pour filtrer un premier signal qui correspond à la première résistance calculée. Le module de calcul de température amène de manière sélective le module de filtre à filtrer le premier signal en réponse à une détermination selon laquelle au moins une condition associée au fonctionnement du système de traitement de substrat est satisfaite.