COMMON SUBSTRATE AND SHADOW RING LIFT APPARATUS

Embodiments of a lift apparatus for use in a substrate processing chamber are provided herein. In some embodiments, a lift apparatus includes: a plurality of first lift pin assemblies configured to raise or lower a substrate having a given diameter when disposed thereon, wherein each of the first lift pin assemblies includes a first lift pin disposed on a first bellows assembly; a plurality of second lift pin assemblies arranged in a circle having a diameter greater than the given diameter and configured to raise or lower an annular chamber component, wherein each of the second lift pin assemblies includes a second lift pin disposed on a second bellows assembly; an actuator; and a lift assembly coupled to the actuator and configured to raise or lower each of the first lift pin assemblies and the second lift pin assemblies by movement of the actuator. Des modes de réalisation d'un appareil de levage destiné à être utilisé dans une chambre de traitement de substrat sont décrits dans la description. Dans certains modes de réalisation, un appareil de levage comprenant : une pluralité de premiers ensembles broches de levage conçus pour soulever ou abaisser un substrat ayant un diamètre donné lorsqu'ils sont disposés sur celui-ci, chacun des premiers ensembles broches de levage comprenant une première broche de levage disposée sur un premier ensemble soufflet ; une pluralité de seconds ensembles broches de levage disposés dans un cercle ayant un diamètre supérieur au diamètre donné et configurés pour élever ou abaisser un composant de chambre annulaire, chacun des seconds ensembles broches de levage comprenant une seconde broche de levage disposée sur un second ensemble soufflet ; un actionneur ; et un ensemble de levage couplé à l'actionneur et configuré pour élever ou abaisser chacun des premiers ensembles broches de levage et des seconds ensembles broches de levage par le mouvement de l'actionneur.