GROUND RETURN FOR THIN FILM FORMATION USING PLASMA

A process kit is provided that includes a susceptor having a rectangular body comprising a perimeter that includes a first major side opposite to a second major side, and a first minor side opposite to a second minor side, wherein each of the minor sides are adjacent to and extend between the first major side and the second major side interfacing at a respective corner, and a plurality of grounding devices coupled to the perimeter of the rectangular body outside of the respective corners of the rectangular body, wherein the plurality of grounding devices includes four or more side grounding devices coupled to each of the first major side, the second major side, the first minor side and the second minor side; and eight or more bottom grounding devices on each of the first major side, the second major side, the first minor side and the second minor side. L'invention concerne un kit de traitement qui comprend un suscepteur ayant un corps rectangulaire comprenant un périmètre qui comprend un premier côté principal opposé à un second côté principal, et un premier côté secondaire opposé à un second côté secondaire, chacun des petits côtés étant adjacent à et s'étendant entre le premier côté principal et le second côté principal formant une interface au niveau d'un coin respectif, et une pluralité de dispositifs de mise à la masse couplés au périmètre du corps rectangulaire à l'extérieur des coins respectifs du corps rectangulaire, la pluralité de dispositifs de mise à la masse comprenant quatre dispositifs de mise à la masse latéraux ou plus couplés à chacun du premier côté principal, du second côté principal, du premier côté secondaire et du second côté secondaire ; et huit dispositifs de mise à la masse inférieurs ou plus sur chacun du premier côté principal, du second côté principal, du premier côté secondaire et du second côté secondaire.