FOREIGN MATTER INSPECTION DEVICE AND FOREIGN MATTER INSPECTION METHOD

The present invention reduces erroneous detection due to diffraction of light by a pattern, and provides a foreign matter inspection device 100 for inspecting foreign matter attached on a substrate W having patterns formed thereon. The foreign matter inspection device 100 comprises: a light irradiat...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KANZAKI, Toyoki, SOMEYA, Shota
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention reduces erroneous detection due to diffraction of light by a pattern, and provides a foreign matter inspection device 100 for inspecting foreign matter attached on a substrate W having patterns formed thereon. The foreign matter inspection device 100 comprises: a light irradiation unit 2 for irradiating the substrate W with laser light LB to linearly scan the same; a first light detecting unit 3A and a second light detecting unit 3B for detecting light reflected by the substrate W; and a foreign matter detecting unit 4 for detecting foreign matter on the basis of output signals from the first light detecting unit 3A and the second light detecting unit 3B. The first light detecting unit 3A and the second light detecting unit 3B are arranged such that a light-receiving elevation angle α with respect to the surface of the substrate W and a light-receiving horizontal angle β with respect to a scan direction of the laser light LB differ from each other. The first light detecting unit 3A detects diffracted light from a pattern forming a predetermined angle with the scan direction. The second light detecting unit 3B detects diffracted light from a pattern forming an angle other than the predetermined angle with the scan direction. La présente invention a pour objet de réduire une détection erronée due à la diffraction de lumière par un motif, et concerne un dispositif 100 d'inspection de corps étrangers servant à inspecter des corps étrangers fixés sur un substrat W sur lequel sont formés des motifs. Le dispositif 100 d'inspection de corps étrangers comporte: une unité 2 d'irradiation de lumière servant à irradier le substrat W avec une lumière laser LB pour le balayer linéairement; une première unité 3A de détection de lumière et une seconde unité 3B de détection de lumière servant à détecter une lumière réfléchie par le substrat W; et une unité 4 de détection de corps étrangers servant à détecter des corps étrangers d'après des signaux de sortie provenant de la première unité 3A de détection de lumière et de la seconde unité 3B de détection de lumière. La première unité 3A de détection de lumière et la seconde unité 3B de détection de lumière sont disposées de telle façon qu'un angle α d'élévation de réception de lumière par rapport à la surface du substrat W et un angle horizontal β de réception de lumière par rapport à une direction de balayage de la lumière laser LB diffèrent l'un de l'autre. La première unité 3A de détection de lumière