METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR LAYER SEQUENCE, AND SEMICONDUCTOR LAYER SEQUENCE

Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschichtenfolge mit den folgenden Schritten angegeben: - Aufbringen eines ersten Bereichs (2a) einer ersten Halbleiterschicht (2), die auf Gruppe-III-Nitriden basiert, auf ein Aufwachssubstrat (1), - Aufbringen einer Ätzstoppschichtenfolge (6) auf...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	HERTKORN, Joachim, TAUTZ, Markus
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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