PROCESS FOR PRODUCING A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR THE EXTREME ULTRAVIOLET WAVELENGTH RANGE AND REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT

For production of a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range, having a reflective coating in the form of a multilayer system on a substrate, wherein the multilayer system has mutually alternating layers of at least two different materials with different real part of the refractive index at a wavelength in the extreme ultraviolet wavelength range, wherein a layer of one of the at least two materials forms a stack with the layer or layers arranged between the former and the closest layer of the same material with increasing distance from the substrate, it is proposed that at least one layer be polished during or after deposition thereof, such that, in the resulting reflective optical element, roughness rises less significantly over all layers than in a corresponding reflective optical element with a reflective coating in the form of a multilayer system composed of unpolished layers, and more than 50 stacks be applied. More preferably, the layer thicknesses are chosen such that the thickness of the layer of one of the at least two materials in at least one stack differs by more than 10% from the thickness of the layers of that material in the adjacent stack(s). Reflective optical elements produced in this way have elevated reflectivity. Pour la production d'un élément optique réfléchissant pour la plage de longueurs d'onde ultraviolettes extrêmes, ayant un revêtement réfléchissant sous la forme d'un système multicouche sur un substrat, le système multicouche ayant des couches alternées mutuellement d'au moins deux matériaux différents ayant une partie réelle différente de l'indice de réfraction à une longueur d'onde dans la plage de longueurs d'onde ultraviolettes extrêmes, une couche de l'un des au moins deux matériaux formant un empilement avec la ou les couches disposées entre cette dernière et la couche la plus proche du même matériau avec une distance croissante du substrat, il est proposé qu'au moins une couche soit polie pendant ou après le dépôt de celle-ci, de telle sorte que, dans l'élément optique réfléchissant résultant, la rugosité augmente sensiblement sur toutes les couches que dans un élément optique réfléchissant correspondant avec un revêtement réfléchissant sous la forme d'un système multicouche composé de couches non polies, et plus de 50 empilements peuvent être appliqués. De préférence, les épaisseurs de couche sont choisies de telle sorte que l'épaisseur de la couche d'un des au moins deux matériaux dans a