RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, POLYMER, AND COMPOUND
Provided are: a radiation-sensitive resin composition which can exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and pattern rectangularity; and a pattern formation method. This radiation-sensitive resin composition contains: a resin having a structural unit represented by formula (1); a...
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| creator | NEMOTO, Ryuichi SAKANO, Nozomi |
| description | Provided are: a radiation-sensitive resin composition which can exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and pattern rectangularity; and a pattern formation method. This radiation-sensitive resin composition contains: a resin having a structural unit represented by formula (1); a radiation-sensitive acid generator; and a solvent. In formula (1), R1 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. R2 and R3 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R4 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms. R5 and R6 are each independently a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R7 and R8 are each independently a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R9 and R10 are each independently a monovalent organic group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a 3-30-membered divalent cyclic organic group together with the carbon atom to which these are bonded. n1 is an integer between 1 and 4. If n1 is 2 or more, the plurality of R5 and R6 moieties may be the same as, or different from, each other. n2 is an integer between 0 and 3. If n2 is 2 or more, the plurality of R7 and R8 moieties may be the same as, or different from, each other.
L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui présente des niveaux satisfaisant de sensibilité, de performance LWR et de rectangularité de motif. L'invention concerne également un procédé de formation de motif. Cette composition de résine sensible au rayonnement contient : une résine ayant une unité structurale représentée par la formule (1) ; un générateur d'acide sensible au rayonnement ; et un solvant. Dans la formule (1), R1 est un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle. R2 et R3 sont chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec |
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L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui présente des niveaux satisfaisant de sensibilité, de performance LWR et de rectangularité de motif. L'invention concerne également un procédé de formation de motif. Cette composition de résine sensible au rayonnement contient : une résine ayant une unité structurale représentée par la formule (1) ; un générateur d'acide sensible au rayonnement ; et un solvant. Dans la formule (1), R1 est un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle. R2 et R3 sont chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R4 est un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone. R5 et R6 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R7 et R8 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R9 et R10 sont chacun indépendamment un groupe organique monovalent ayant 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent les uns avec les autres pour former un groupe organique cyclique divalent à 3 à 30 chaînons conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés.n1 est un nombre entier compris entre 1 et 4. Si n1 est supérieur ou égal à 2, la pluralité de fractions R5 et R6 peuvent être identiques les unes aux autres ou différentes les unes des autres.n2 est un nombre entier compris entre 0 et 3. Si n2 est supérieur ou égal à 2, la pluralité de fractions R7 et R8 peuvent être identiques les unes aux autres ou différentes les unes des autres.
感度やＬＷＲ性能、パターン矩形性を十分なレベルで発揮可能な感放射線性樹脂組成物、及びパターン形成方法を提供する。 下記式（１）で表される構造単位を有する樹脂と、 感放射線性酸発生剤と、 溶剤と を含む感放射線性樹脂組成物。 （式（１）中、 Ｒ１は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。 Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ４は、水素原子、又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基である。 Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、若しくは炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、若しくは炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立して、炭素数１～１０の１価の有機基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数３～３０の２価の環状有機基を表す。 ｎ１は、１～４の整数である。ｎ１が２以上の場合、複数のＲ５及びＲ６は互いに同一又は異なる。 ｎ２は、０～３の整数である。ｎ２が２以上の場合、複数のＲ７及びＲ８は互いに同一又は異なる。）</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CHEMISTRY ; CINEMATOGRAPHY ; COMPOSITIONS BASED THEREON ; ELECTROGRAPHY ; HETEROCYCLIC COMPOUNDS ; HOLOGRAPHY ; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS ; MATERIALS THEREFOR ; METALLURGY ; ORGANIC CHEMISTRY ; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220909&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022186048A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220909&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022186048A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>NEMOTO, Ryuichi</creatorcontrib><creatorcontrib>SAKANO, Nozomi</creatorcontrib><title>RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, POLYMER, AND COMPOUND</title><description>Provided are: a radiation-sensitive resin composition which can exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and pattern rectangularity; and a pattern formation method. This radiation-sensitive resin composition contains: a resin having a structural unit represented by formula (1); a radiation-sensitive acid generator; and a solvent. In formula (1), R1 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. R2 and R3 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R4 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms. R5 and R6 are each independently a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R7 and R8 are each independently a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R9 and R10 are each independently a monovalent organic group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a 3-30-membered divalent cyclic organic group together with the carbon atom to which these are bonded. n1 is an integer between 1 and 4. If n1 is 2 or more, the plurality of R5 and R6 moieties may be the same as, or different from, each other. n2 is an integer between 0 and 3. If n2 is 2 or more, the plurality of R7 and R8 moieties may be the same as, or different from, each other.
L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui présente des niveaux satisfaisant de sensibilité, de performance LWR et de rectangularité de motif. L'invention concerne également un procédé de formation de motif. Cette composition de résine sensible au rayonnement contient : une résine ayant une unité structurale représentée par la formule (1) ; un générateur d'acide sensible au rayonnement ; et un solvant. Dans la formule (1), R1 est un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle. R2 et R3 sont chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R4 est un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone. R5 et R6 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R7 et R8 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R9 et R10 sont chacun indépendamment un groupe organique monovalent ayant 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent les uns avec les autres pour former un groupe organique cyclique divalent à 3 à 30 chaînons conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés.n1 est un nombre entier compris entre 1 et 4. Si n1 est supérieur ou égal à 2, la pluralité de fractions R5 et R6 peuvent être identiques les unes aux autres ou différentes les unes des autres.n2 est un nombre entier compris entre 0 et 3. Si n2 est supérieur ou égal à 2, la pluralité de fractions R7 et R8 peuvent être identiques les unes aux autres ou différentes les unes des autres.
感度やＬＷＲ性能、パターン矩形性を十分なレベルで発揮可能な感放射線性樹脂組成物、及びパターン形成方法を提供する。 下記式（１）で表される構造単位を有する樹脂と、 感放射線性酸発生剤と、 溶剤と を含む感放射線性樹脂組成物。 （式（１）中、 Ｒ１は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。 Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ４は、水素原子、又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基である。 Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、若しくは炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、若しくは炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立して、炭素数１～１０の１価の有機基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数３～３０の２価の環状有機基を表す。 ｎ１は、１～４の整数である。ｎ１が２以上の場合、複数のＲ５及びＲ６は互いに同一又は異なる。 ｎ２は、０～３の整数である。ｎ２が２以上の場合、複数のＲ７及びＲ８は互いに同一又は異なる。）</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>COMPOSITIONS BASED THEREON</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HETEROCYCLIC COMPOUNDS</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>ORGANIC CHEMISTRY</subject><subject>ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZAgLcnTxdAzx9PfTDXb1C_YM8QxzVQhyDfb0U3D29w3wB4n4--koBDiGhLgG-Sm4-Qf5gpUr-LqGePi7AGX8fSJ9XYN0FBz9XCB6Qv1ceBhY0xJzilN5oTQ3g7Kba4izh25qQX58anFBYnJqXmpJfLi_kYGRkaGFmYGJhaOhMXGqAI1kMfg</recordid><startdate>20220909</startdate><enddate>20220909</enddate><creator>NEMOTO, Ryuichi</creator><creator>SAKANO, Nozomi</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220909</creationdate><title>RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, POLYMER, AND COMPOUND</title><author>NEMOTO, Ryuichi ; SAKANO, Nozomi</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022186048A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2022</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>COMPOSITIONS BASED THEREON</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HETEROCYCLIC COMPOUNDS</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>ORGANIC CHEMISTRY</topic><topic>ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>NEMOTO, Ryuichi</creatorcontrib><creatorcontrib>SAKANO, Nozomi</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>NEMOTO, Ryuichi</au><au>SAKANO, Nozomi</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, POLYMER, AND COMPOUND</title><date>2022-09-09</date><risdate>2022</risdate><abstract>Provided are: a radiation-sensitive resin composition which can exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and pattern rectangularity; and a pattern formation method. This radiation-sensitive resin composition contains: a resin having a structural unit represented by formula (1); a radiation-sensitive acid generator; and a solvent. In formula (1), R1 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. R2 and R3 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R4 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms. R5 and R6 are each independently a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R7 and R8 are each independently a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a C3-20 divalent cyclic hydrocarbon group together with the carbon atom to which these are bonded. R9 and R10 are each independently a monovalent organic group having 1-10 carbon atoms, or these groups combine with each other to form a 3-30-membered divalent cyclic organic group together with the carbon atom to which these are bonded. n1 is an integer between 1 and 4. If n1 is 2 or more, the plurality of R5 and R6 moieties may be the same as, or different from, each other. n2 is an integer between 0 and 3. If n2 is 2 or more, the plurality of R7 and R8 moieties may be the same as, or different from, each other.
L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui présente des niveaux satisfaisant de sensibilité, de performance LWR et de rectangularité de motif. L'invention concerne également un procédé de formation de motif. Cette composition de résine sensible au rayonnement contient : une résine ayant une unité structurale représentée par la formule (1) ; un générateur d'acide sensible au rayonnement ; et un solvant. Dans la formule (1), R1 est un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle. R2 et R3 sont chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R4 est un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone. R5 et R6 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R7 et R8 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent l'un avec l'autre pour former un groupe hydrocarboné cyclique divalent en C3-20 conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés. R9 et R10 sont chacun indépendamment un groupe organique monovalent ayant 1 à 10 atomes de carbone, ou ces groupes se combinent les uns avec les autres pour former un groupe organique cyclique divalent à 3 à 30 chaînons conjointement à l'atome de carbone auquel ils sont liés.n1 est un nombre entier compris entre 1 et 4. Si n1 est supérieur ou égal à 2, la pluralité de fractions R5 et R6 peuvent être identiques les unes aux autres ou différentes les unes des autres.n2 est un nombre entier compris entre 0 et 3. Si n2 est supérieur ou égal à 2, la pluralité de fractions R7 et R8 peuvent être identiques les unes aux autres ou différentes les unes des autres.
感度やＬＷＲ性能、パターン矩形性を十分なレベルで発揮可能な感放射線性樹脂組成物、及びパターン形成方法を提供する。 下記式（１）で表される構造単位を有する樹脂と、 感放射線性酸発生剤と、 溶剤と を含む感放射線性樹脂組成物。 （式（１）中、 Ｒ１は、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。 Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ４は、水素原子、又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基である。 Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、若しくは炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子、若しくは炭素数１～１０の１価の炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数３～２０の２価の環状炭化水素基を表す。 Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立して、炭素数１～１０の１価の有機基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数３～３０の２価の環状有機基を表す。 ｎ１は、１～４の整数である。ｎ１が２以上の場合、複数のＲ５及びＲ６は互いに同一又は異なる。 ｎ２は、０～３の整数である。ｎ２が２以上の場合、複数のＲ７及びＲ８は互いに同一又は異なる。）</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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