ENDOSCOPE SYSTEM, CONTROL DEVICE, AND METHOD OF CONTROLLING GAS FLOW

An endoscope system including: an endoscope; a treatment tube including an electrode and a first gas channel; a first gas source supplying a first gas through the first gas channel; a second gas source supplying a second gas through a second gas channel that is not included within the treatment tube and supplies the second gas in the direction of the distal end of the insertion channel; an electricity power source supplying a first high frequency current to the electrode to ionize the first gas into a plasma state; and a control circuit controlling the electricity power source, and the first and second gas sources. The first gas ionizes into the plasma state at a first high frequency amperage, the second gas ionizes into a plasma state at a second high frequency amperage, and the second high frequency current is higher than the first high frequency amperage. L'invention concerne un système d'endoscope comprenant : un endoscope ; un tube de traitement comprenant une électrode et un premier canal de gaz ; une première source de gaz fournissant un premier gaz à travers le premier canal de gaz ; une seconde source de gaz fournissant un second gaz à travers un second canal de gaz qui n'est pas inclus dans le tube de traitement et qui fournit le second gaz dans la direction de l'extrémité distale du canal d'insertion ; une source d'énergie électrique fournissant un premier courant haute fréquence à l'électrode pour ioniser le premier gaz dans un état de plasma ; et un circuit de commande commandant la source d'énergie électrique, et les première et seconde sources de gaz. Le premier gaz ionise dans l'état de plasma à une première intensité de fréquence élevée, le second gaz ionise dans un état de plasma à une seconde intensité de fréquence élevée, et le second courant haute fréquence est supérieur à la première intensité de fréquence élevée.