VAPOR DEPOSITION SOURCE FOR VACUUM DEPOSITION DEVICES

Provided is a vapor deposition source for vacuum deposition devices in which, when a crucible filled with a vapor deposition material is heated via induction heating, the entirety of the crucible, including a cap body, takes on a top-heated state. A vapor deposition source DS1 comprises: a crucible 4 in which a vapor deposition material Vm is filled; a cap body 5 which blocks an upper surface opening 4a of the crucible; and an induction heating coil 6 which is disposed around the crucible and the cap body, wherein a discharge portion 51a that allows the passage of vapor deposition material which has been evaporated or sublimated by heating is provided to the cap body, and a ridge 52b that has corners is provided to an outer surface of the cap body. L'invention concerne une source de dépôt en phase vapeur pour dispositifs de dépôt sous vide où, lorsqu'un creuset rempli d'un matériau de dépôt en phase vapeur est chauffé par chauffage par induction, la totalité du creuset, y compris un corps de capuchon, prend un état chauffé par le haut. Une source de dépôt en phase vapeur DS1 comprend : un creuset 4 dans lequel est chargé un matériau de dépôt en phase vapeur Vm ; un corps de capuchon 5 qui bloque une ouverture de surface supérieure 4a du creuset ; et une bobine de chauffage par induction 6 qui est disposée autour du creuset et du corps de capuchon, une partie d'évacuation 51a qui permet le passage d'un matériau de dépôt en phase vapeur qui a été évaporé ou sublimé par chauffage étant disposée sur le corps de capuchon, et une arête 52b qui a des coins étant disposée sur une surface externe du corps de capuchon. 蒸着物質を充填した坩堝を誘導加熱方式で加熱すると、キャップ体を含む坩堝全体がトップヒート状態になる真空蒸着装置用の蒸着源を提供する。 蒸着源ＤＳ１は、蒸着物質Ｖｍが充填される坩堝４と、坩堝の上面開口４ａを塞ぐキャップ体５と、坩堝とキャップ体との周囲に配置される誘導加熱コイル６とを備え、キャップ体に加熱により気化または昇華した蒸着物質の通過を許容する放出部５１ａが設けられ、キャップ体の外面に、角部を持つ突条５２ｂが設けられる。