INTEGRATED CONTROL OF A PLASMA PROCESSING SYSTEM

Plasma processing systems and power delivery methods are disclosed. A system may comprise at least one modulating supply that modulates plasma properties where the modulation of the plasma properties has a repetition period, T. Electrical characteristics of an output of the modulating supply are monitored and provided to a controller where the electrical characteristics are analyzed. Characteristics of a waveform with the repetition period T are communicated to at least one piece of equipment connected to plasma processing system to enable synchronization of pieces of equipment connected to the plasma processing system. And in addition, instructions are relayed to the modulating supply and a match network, based on the analyzing of the electrical characteristics, enabling simultaneous tuning of the modulating supply and the match network. La divulgation concerne des systèmes de traitement au plasma et des procédés de distribution de puissance. Un système peut comprendre au moins une alimentation de modulation qui module des propriétés de plasma, la modulation des propriétés de plasma ayant une période de répétition, T. Des caractéristiques électriques d'une sortie de l'alimentation de modulation sont surveillées et fournies à un dispositif de commande au niveau duquel les caractéristiques électriques sont analysées. Les caractéristiques d'une forme d'onde ayant la période de répétition T sont communiquées à au moins un élément d'équipement connecté à un système de traitement au plasma pour permettre la synchronisation d'éléments d'équipement connectés au système de traitement au plasma. En outre, des instructions sont relayées vers l'alimentation de modulation et vers un réseau d'adaptation, sur la base de l'analyse des caractéristiques électriques, permettant un accord simultané de l'alimentation de modulation et du réseau d'adaptation.