ELECTROSTATIC CHUCK WITH DIFFERENTIATED CERAMICS

Electrostatic chucks (ESCs) for reactor or plasma processing chambers, and methods of fabricating ESCs, are described. In an example, a substrate support assembly includes a ceramic bottom plate having heater elements therein, the ceramic bottom plate composed of alumina having a first purity. The substrate support assembly also includes a ceramic top plate having an electrode therein, the ceramic top plate composed of alumina having a second purity higher than the first purity. A bond layer is between the ceramic top plate and the ceramic bottom plate. The ceramic top plate is in direct contact with the bond layer, and the bond layer is in direct contact with the ceramic bottom plate. La présente invention concerne des mandrins électrostatiques (ESC) destinés à des réacteurs ou à des chambres de traitement de plasma, ainsi que des procédés de fabrication de mandrins électrostatiques. Dans un exemple, un ensemble de support de substrat comprend une plaque inférieure en céramique contenant des éléments chauffants, la plaque inférieure en céramique composée d'alumine ayant une première pureté. L'ensemble de support de substrat comprend également une plaque supérieure en céramique contenant une électrode, la plaque supérieure en céramique composée d'alumine ayant une seconde pureté supérieure à la première pureté. Une couche de liaison se trouve entre la plaque supérieure en céramique et la plaque inférieure en céramique. La plaque supérieure en céramique est en contact direct avec la couche de liaison, et la couche de liaison est en contact direct avec la plaque inférieure en céramique.