CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS, SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, AND METHOD OF OPERATING A CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS

A charged particle beam apparatus (100) is described. The charged particle beam apparatus includes a first vacuum region (121) in which a charged particle beam emitter (105) for emitting a charged particle beam (102) along an optical axis (A) is arranged, a second vacuum region (122) downstream of the first vacuum region and separated from the first vacuum region by a first gas separation wall (132) with a first differential pumping aperture (131), wherein the first differential pumping aperture (131) is configured as a first beam limiting aperture for the charged particle beam (102); and a third vacuum region (123) downstream of the second vacuum region and separated from the second vacuum region by a second gas separation wall (134) with a second differential pumping aperture (133), wherein the second differential pumping aperture (133) is configured as a second beam limiting aperture for the charged particle beam (102). Further described are a scanning electron microscope and a method of operating a charged particle beam apparatus. La présente divulgation concerne un un appareil à faisceau de particules chargées (100). L'appareil à faisceau de particules chargées comprend une première région de vide (121) dans laquelle un émetteur de faisceau de particules chargées (105) pour émettre un faisceau de particules chargées (102) le long d'un axe optique (A) est disposé, une deuxième région de vide (122) en aval de la première région de vide et séparée de la première région de vide par une première paroi de séparation de gaz (132) avec une première ouverture de pompage différentielle (131), la première ouverture de pompage différentielle (131) étant configurée sous la forme d'une première ouverture de limitation de faisceau pour le faisceau de particules chargées (102) ; et une troisième région de vide (123) en aval de la deuxième région de vide et séparée de la deuxième région de vide par une deuxième paroi de séparation de gaz (134) avec une deuxième ouverture de pompage différentielle (133), la deuxième ouverture de pompage différentielle (133) étant configurée sous la forme d'une deuxième ouverture de limitation de faisceau pour le faisceau de particules chargées (102). La divulgation concerne en outre un microscope électronique à balayage et un procédé de fonctionnement d'un appareil à faisceau de particules chargées.