CHAMBER BODY FEEDTHROUGH FOR IN CHAMBER RESISTIVE HEATING ELEMENT

A method and apparatus for providing uniform heating of substrates disposed within a processing chamber is provided. The apparatus includes one or more heating coils disposed in the processing chamber. The one or more heating coils are electrically coupled to a power source using heater rods. The he...

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Hauptverfasser: CHIN, Chia Cheng, MORADIAN, Ala, BURROWS, Brian Hayes, ZHU, Zuoming
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method and apparatus for providing uniform heating of substrates disposed within a processing chamber is provided. The apparatus includes one or more heating coils disposed in the processing chamber. The one or more heating coils are electrically coupled to a power source using heater rods. The heater rods are coupled to a socket on a distal end opposite the connection to the heating coils. The socket includes a feedthrough and a cooling plate configured to remove contaminants, such as methane, from the area surrounding the heater rod. L'invention concerne un procédé et un appareil permettant de fournir un chauffage uniforme de substrats disposés à l'intérieur d'une chambre de traitement. L'appareil comprend une ou plusieurs bobines de chauffage disposées dans la chambre de traitement. La ou les bobines de chauffage sont couplées électriquement à une source d'alimentation à l'aide de tiges de chauffage. Les tiges de chauffage sont couplées à une douille sur une extrémité distale opposée à la connexion aux bobines de chauffage. La douille comprend une traversée et une plaque de refroidissement conçue pour éliminer des contaminants, tels que le méthane, de la zone entourant la tige de chauffage.