MULTI-ZONE HEATER CONTROL FOR WAFER PROCESSING EQUIPMENT

A method of providing power to a plurality of heaters in multiple zones for wafer-processing equipment may include causing a voltage to be supplied to a plurality of power leads configured to supply the voltage to a plurality of different heating zones in a pedestal, causing current to be received from the plurality of different heating zones through a return lead that is shared by the plurality of power leads, and causing a polarity of the voltage provided to the plurality of power leads to switch. The switching frequency may be configured such that a DC chucking operation can be active at the same time to hold a substrate to the pedestal. Duty cycling the heating zones that share the return lead may minimize the current through the shared return lead. Un procédé de fourniture d'énergie à une pluralité de dispositifs de chauffage dans de multiples zones pour un équipement de traitement de tranche peut consister à amener une tension à être fournie à une pluralité de câbles d'alimentation conçus pour fournir la tension à une pluralité de zones de chauffage différentes dans un socle, amenant le courant à être reçu à partir de la pluralité de zones de chauffage différentes à travers un conducteur de retour qui est partagé par la pluralité de câbles d'alimentation, et à amener une polarité de la tension fournie à la pluralité de câbles d'alimentation à commuter. La fréquence de commutation peut être configurée de telle sorte qu'une opération de serrage CC peut être active en même temps pour maintenir un substrat sur le socle. Le cycle de service des zones de chauffage qui partagent le conducteur de retour peut réduire au minimum le courant à travers le conducteur de retour partagé.