TEMPERATURE CONTROL DEVICE OF DIFFUSION FURNACE FOR WAFER DEPOSITION

The present invention relates to a temperature control device of a diffusion furnace for wafer deposition, wherein the diffusion furnace for wafer deposition comprises a reaction tube in which a boat for accommodating a wafer and rotating in one direction is accommodated. The temperature control device comprising: a heater unit installed along the circumference of the reaction tube and individually heating a plurality of regions of the reaction tube divided in the longitudinal direction; an internal thermocouple thermometer installed inside each region of the reaction tube and detecting an internal temperature of the reaction tube; an external thermocouple thermometer installed outside each region of the reaction tube and detecting an internal temperature of the diffusion furnace; a camera unit which is installed inside the reaction tube to be at least tiltable or vertically movable with respect to the side of the boat and includes at least one thermal imaging camera for taking infrared images of a plurality of wafers accommodated in the boat; and a control unit for controlling operation of the heater unit on the basis of the internal temperature of the reaction tube detected from the internal thermocouple thermometer, the internal temperature of the diffusion furnace detected from the external thermocouple thermometer, and the temperature of each wafer detected from the camera unit. La présente invention se rapporte à un dispositif de régulation de température d'un four de diffusion pour le dépôt de tranches, le four de diffusion pour le dépôt de tranches comprenant un tube de réaction dans lequel est reçue une nacelle destinée à recevoir une tranche et tournant dans une direction. Le dispositif de régulation de température comprend : une unité de chauffage installée le long de la circonférence du tube de réaction et chauffant individuellement une pluralité de régions du tube de réaction divisé dans la direction longitudinale ; un thermomètre à thermocouple interne installé à l'intérieur de chaque région du tube de réaction et détectant une température interne du tube de réaction ; un thermomètre à thermocouple externe installé à l'extérieur de chaque région du tube de réaction et détectant une température interne du four de diffusion ; une unité de caméra qui est installée à l'intérieur du tube de réaction pour être au moins inclinable ou verticalement mobile par rapport au côté de la nacelle et qui comprend au moins une caméra d'imagerie thermique serva