HYPERBARIC CLEAN METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING SEMICONDUCTOR CHAMBER COMPONENTS

Embodiments of a methods and cleaning systems for cleaning components for use in substrate processing equipment are provided herein. In some embodiments, a cleaning system includes a boiler having a heater configured to heat a fluid; a clean chamber fluidly coupled to the boiler via at least one of...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GROECHEL, David W, SMITH, John Z, OSTERMAN, Scott, PLAVIDAL, Richard Wells, PENG, Gang Grant
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Embodiments of a methods and cleaning systems for cleaning components for use in substrate processing equipment are provided herein. In some embodiments, a cleaning system includes a boiler having a heater configured to heat a fluid; a clean chamber fluidly coupled to the boiler via at least one of a gas line and a liquid line, wherein the clean chamber includes one or more fixtures in an interior volume therein for holding at least one component to be cleaned, and wherein the clean chamber includes a heater for heating the interior volume; and an expansion chamber fluidly coupled to the clean chamber via a release line for evacuating the clean chamber, wherein the release line includes a release valve to selectively open or close a flow path between the expansion chamber and the clean chamber, and wherein the expansion chamber includes a chiller and a vacuum port. Des modes de réalisation de l'invention concernent des procédés et des systèmes de nettoyage permettant de nettoyer des composants destinés à être utilisés dans un équipement de traitement de substrat. Dans certains modes de réalisation, un système de nettoyage comprend une chaudière ayant un dispositif de chauffage conçu pour chauffer un fluide ; une salle blanche raccordée de manière fluidique à la chaudière par l'intermédiaire d'une conduite de gaz et/ou d'une conduite de liquide, la salle blanche comprenant un ou plusieurs éléments de fixation dans un volume intérieur dans cette dernière servant à tenir au moins un composant à nettoyer, la salle blanche comprenant un dispositif de chauffage servant à chauffer le volume intérieur ; une chambre de détente raccordée de manière fluidique à la salle blanche par l'intermédiaire d'une conduite de libération pour évacuer la salle blanche, la conduite de libération comprenant une soupape d'évacuation pour ouvrir ou fermer de manière sélective un trajet d'écoulement entre la chambre de détente et la salle blanche, la chambre de détente comprenant un refroidisseur et un orifice à vide.