LAYER-FORMING METHOD, OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL SYSTEM

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bilden mindestens einer Schicht (3) auf einem Substrat (2) aus einem fluoridischen Material, umfassend: Abscheiden mindestens eines Beschichtungsmaterials (9) auf dem Substrat (2) zum Bilden der Schicht (3), sowie Erzeugen eines Plasmas (12) zur Unterstützung des Abscheidens des Beschichtungsmaterials (9). Das Plasma (12) wird aus einer Gasmischung (14) gebildet, die ein erstes Gas (G) und ein zweites Gas (H) enthält, wobei das zweite Gas (H) eine Ionisierungsenergie aufweist, die kleiner ist als eine Ionisierungsenergie des ersten Gases (G), wobei das erste Gas (G) ein Edelgas ist und wobei das zweite Gas (H) ein weiteres Edelgas oder ein reaktives Gas in Form eines fluorhaltigen Gases ist. Die Erfindung betrifft auch ein optisches Element, umfassend: ein Substrat (2) aus einem fluoridischen Material, insbesondere aus einem Metallfluorid, wobei das Substrat (2) eine Beschichtung aufweist, die mindestens eine Schicht (3) umfasst, die gemäß dem weiter oben beschriebenen Verfahren gebildet wurde. Die Erfindung betrifft auch ein optisches System, insbesondere für den DUV-Wellenlängenbereich, das mindestens ein solches optisches Element aufweist. The invention relates to a method for forming at least one layer (3) on a substrate (2) made of a fluoridic material, comprising: depositing at least one coating material (9) on the substrate (2) to form the layer (3), and generating a plasma (12) to support the deposition of the coating material (9). The plasma (12) is formed from a gas mixture (14) comprising a first gas (G) and a second gas (H), the second gas (H) having an ionization energy lower than an ionization energy of the first gas (G), and the first gas (G) being a noble gas and the second gas (H) being a further noble gas or a reactive gas in the form of a fluorine-containing gas. The invention also relates to an optical element, comprising: a substrate (2) made of a fluoridic material, more particularly of a metal fluoride, where the substrate (2) has a coating comprising at least one layer (3) formed according to the method described earlier on above. The invention also relates to an optical system, more particularly for the DUV wavelength range, that comprises at least one such optical element. L'invention concerne un procédé de formation d'au moins une couche (3) sur un substrat (2) constitué d'un matériau fluorique, le procédé consistant : à déposer au moins un matériau de revêtement (9) sur le substrat (2) af