MIRROR, OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING AN OPTICAL SYSTEM

The invention relates to a method for operating an optical system, and to a mirror and to an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus. A mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the mirror has an optical effective surface, comprises a mirror substrate (101, 201, 301, 401, 501) and a plurality of cavities (110, 210, 310, 410, 411, 510) which are arranged in the mirror substrate and to each of which a fluid can be applied, wherein a deformation is transferable to the optical effective surface by varying the fluid pressure in these cavities (110, 210, 310, 410, 411, 510). L'invention concerne un procédé de fonctionnement d'un système optique ainsi qu'un miroir et un système optique, en particulier pour un appareil d'exposition par projection microlithographique. Un miroir, en particulier pour un appareil d'exposition par projection microlithographique, le miroir ayant une surface optique efficace, comprend un substrat de miroir (101, 201, 301, 401, 501) et une pluralité de cavités (110, 210, 310, 410, 411, 510) qui sont disposées dans le substrat de miroir et à chacune desquelles un fluide peut être appliqué, une déformation étant transférable à la surface optique efficace en faisant varier la pression de fluide dans ces cavités (110, 210, 310, 410, 411, 510).