METAL ETCH
A method for etching a metal containing material is provided. The metal containing material is exposed to a halogen containing fluid or plasma to convert at least some of the metal containing material into a metal halide material. The metal halide material is exposed to a ligand containing fluid or...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| Zusammenfassung: | A method for etching a metal containing material is provided. The metal containing material is exposed to a halogen containing fluid or plasma to convert at least some of the metal containing material into a metal halide material. The metal halide material is exposed to a ligand containing fluid or plasma, wherein at least some of the metal halide material is formed into a metal halide ligand complex. At least some of the metal halide ligand complex is vaporized.
La présente invention concerne un procédé de gravure d'un matériau contenant du métal. Le matériau contenant du métal est exposé à un fluide ou un plasma contenant un halogène pour convertir au moins une partie du matériau contenant du métal en matériau d'halogénure métallique. Le matériau d'halogénure métallique est exposé à un fluide ou un plasma contenant un ligand, au moins une partie du matériau d'halogénure métallique étant formée en un complexe halogénure métallique-ligand. Au moins une partie du complexe halogénure métallique-ligand est vaporisée. |
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