APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING AN INSPECTION SYSTEM

A method and apparatus for cleaning vacuum ultraviolet (VUV) optics (e.g., mirrors of a VUV) of a wafer inspection system is disclosed. The cleaning system ionizes or disassociates the hydrogen gas in VUV optics environment to generate hydrogen radicals (e.g., H*) or ions (e.g., H+, H2+, H3+), which remove water or hydrocarbons from the surface of the mirrors. The VUV mirrors may comprise a reflective material, such as aluminum. The VUV mirrors may have a protective coating to protect the reflective material from any detrimental reaction to the hydrogen radicals or ions. The protective coating may comprise a noble metal. L'invention divulgue un procédé et un appareil de nettoyage d'un dispositif optique à ultraviolet du vide (VUV) (par exemple, des miroirs d'un VUV) d'un système d'inspection de tranche. Le système de nettoyage ionise ou dissocie l'hydrogène gazeux dans l'environnement de dispositif optique VUV pour générer des radicaux hydrogène (par exemple, H*) ou des ions hydrogène (par exemple, H+, H2+, H3+), qui éliminent l'eau ou les hydrocarbures de la surface des miroirs. Les miroirs VUV peuvent comprendre un matériau réfléchissant, tel que l'aluminium. Les miroirs VUV peuvent avoir un revêtement protecteur pour protéger le matériau réfléchissant de toute réaction nuisible aux radicaux ou aux ions hydrogène. Le revêtement protecteur peut comprendre un métal noble.