WORKPIECE PROCESSING APPARATUS WITH THERMAL PROCESSING SYSTEMS

A processing apparatus for a thermal treatment of a workpiece is presented. The processing apparatus includes a processing chamber, a workpiece support disposed within the processing chamber, a rotation system configured to rotate the workpiece support, a gas delivery system configured to flow one or more process gases into the processing chamber from the a first side of the processing chamber, one or more gas exhaust ports for removing gas from the processing chamber such that a vacuum pressure can be maintained, one or more radiative heating sources disposed on the second side of the processing chamber, one or more dielectric windows disposed between the workpiece support and the one or more radiative heating sources, and a workpiece temperature measurement system configured at a temperature measurement wavelength range to obtain a measurement indicative of a temperature of a back side of the workpiece. Un appareil de traitement pour un traitement thermique d'une pièce est présenté. L'appareil de traitement comprend une chambre de traitement, un porte-pièces disposé à l'intérieur de la chambre de traitement, un système de rotation configuré pour faire tourner le porte-pièces, un système de distribution de gaz configuré pour faire circuler un ou plusieurs gaz de traitement dans la chambre de traitement à partir d'un premier côté de la chambre de traitement, un ou plusieurs orifices d'échappement de gaz pour éliminer le gaz de la chambre de traitement de telle sorte qu'une pression de vide peut être maintenue, une ou plusieurs sources de chauffage par rayonnement disposées sur le second côté de la chambre de traitement, une ou plusieurs fenêtres diélectriques disposées entre le porte-pièces et la ou les sources de chauffage par rayonnement, et un système de mesure de température de pièce configuré au niveau d'une plage de longueurs d'onde de mesure de température pour obtenir une mesure indicative d'une température d'un côté arrière de la pièce.