DEVICE AND METHOD FOR DETERMINING A FOCAL POSITION

Die Erfindung betrifft eine Strahlanalysevorrichtung (10) zur Bestimmung einer axialen Position eines Strahlfokus (71) eines Energiestrahls oder eines aus einem Energiestrahl ausgekoppelten Probenstrahls (70), die eine Strahlformungseinrichtung (12), einen Detektor (40), und eine Auswertungseinrichtung (45) umfasst. Die Strahlformungseinrichtung (12) ist eingerichtet, aus dem Probenstrahl (70) in einer Ebene der Teilstrahlherauslösung (19) zwei Teilstrahlen (72, 73) herauszulösen, wobei die Querschnitte der zwei Teilstrahlen (72, 73) durch voneinander abgegrenzte Teilaperturen (32, 33) definiert sind, die in einer ersten lateralen Richtung (31) einen Abstand k zueinander aufweisen. Die Strahlformungseinrichtung (12) ist eingerichtet, die zwei Teilstrahlen (72, 73) abzubilden zur Formung von zwei Strahlflecken (92, 93) auf dem Detektor und mindestens einen der zwei Teilstrahlen (72, 73) in einer zweiten lateralen Richtung (37) abzulenken, die quer zur ersten lateralen Richtung (31) ausgerichtet ist, zur Ausbildung eines Abstandes w in der zweiten lateralen Richtung (37) zwischen den zwei Strahlflecken (92, 93). Die Auswertungseinrichtung (45) ist eingerichtet zur Bestimmung eines Abstandes a entlang der ersten lateralen Richtung (31) zwischen Positionen der zwei Strahlflecke (92, 93) auf dem Detektor (40) und zur Bestimmung einer axialen Position des Strahlfokus (71) basierend auf dem Abstand a und/oder zur Bestimmung einer Änderung der axialen Position des Strahlfokus (71) basierend auf einer Änderung des Abstandes a. Die Erfindung betrifft auch ein entsprechendes Verfahren zur Bestimmung einer axialen Position eines Strahlfokus (71). The invention relates to a beam analysis device (10) for determining the axial position of the focal point (71) of an energy beam or a sample beam (70) decoupled from an energy beam, comprising a beam-shaping device (12), a detector (40), and an analysis device (45). The beam-shaping device (12) is designed to release two sub-beams (72, 73) from the sample beam (70) on a plane of the sub-beam release process (19). The cross-sections of the two sub-beams (72, 73) are defined by sub-apertures (32, 33) which are delimited from each other and which are arranged at a distance k to each other in a first lateral direction (31). The beam-shaping device (12) is designed to image the two sub-beams (72, 73) in order to form two beam spots (92, 93) on the detector and deflect at least one of the two sub-beams (72, 73) in a second lateral