RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND ONIUM SALT COMPOUND
Provided are: a radiation-sensitive resin composition able to exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and CDU performance; a method for forming a pattern; and an onium salt compound. This radiation-sensitive resin composition contains an onium salt compound represented by formula...
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| creator | NEMOTO, Ryuichi SAKANO, Nozomi |
| description | Provided are: a radiation-sensitive resin composition able to exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and CDU performance; a method for forming a pattern; and an onium salt compound. This radiation-sensitive resin composition contains an onium salt compound represented by formula (1), a resin containing a structural unit having an acid-dissociable group, and a solvent. In the formula (1), R1 is a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. R2 and R3 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms, or R2 and R3 combine with each other to form a 3-20-membered ring structure together with the carbon atom to which these are bonded. R4 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. L1 is a substituted or unsubstituted divalent linking group having 1-40 carbon atoms, or R4 and L1 combine with each other to form a 3-20-membered heterocyclic ring structure together with the nitrogen atom to which these are bonded. L2 is a single bond or a substituted or unsubstituted divalent linking group having 1-40 carbon atoms. Rf1 and Rf2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or a monovalent fluorinated hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms. In a case where a plurality of Rf1 and Rf2 are present, the plurality of Rf1 and Rf2 may be the same as, or different from, each other. n is an integer between 1 and 4. Z+ is a monovalent radiation-sensitive onium cation.
L'invention concerne : une composition de résine sensible aux rayonnements apte à présenter des niveaux appropriés de sensibilité, de performance LWR et de performance CDU ; un procédé de formation d'un motif, et un composé de sel d'onium. Cette composition de résine sensible aux rayonnements contient un composé de sel d'onium représenté par la formule (1), une résine contenant un motif structural ayant un groupe pouvant être dissocié par un acide, et un solvant. Dans la formule (1), R1 représente un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. R2 et R3 représentent chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou R2 et R3 se combinent l'un avec l'autre pour former une structure cyclique de 3 à 20 chaînons avec l'atome de carbone auquel ils sont liés. R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. L1 est un groupe de liaison |
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L'invention concerne : une composition de résine sensible aux rayonnements apte à présenter des niveaux appropriés de sensibilité, de performance LWR et de performance CDU ; un procédé de formation d'un motif, et un composé de sel d'onium. Cette composition de résine sensible aux rayonnements contient un composé de sel d'onium représenté par la formule (1), une résine contenant un motif structural ayant un groupe pouvant être dissocié par un acide, et un solvant. Dans la formule (1), R1 représente un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. R2 et R3 représentent chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou R2 et R3 se combinent l'un avec l'autre pour former une structure cyclique de 3 à 20 chaînons avec l'atome de carbone auquel ils sont liés. R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. L1 est un groupe de liaison divalent substitué ou non substitué ayant de 1 à 40 atomes de carbone, ou R4 et L1 se combinent les uns avec les autres pour former une structure à noyau hétérocyclique de 3 à 20 chaînons conjointement avec l'atome d'azote auquel ils sont liés. L2 est une liaison simple ou un groupe de liaison divalent substitué ou non substitué ayant de 1 à 40 atomes de carbone. Rf1 et Rf2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone. Dans le cas où plusieurs Rf1 et Rf2 sont présents, lesdits Rf1 et Rf2 peuvent être identiques ou différents les uns des autres, n est un nombre entier compris entre 1 et 4. Z+ est un cation onium monovalent sensible aux rayonnements.
感度やＬＷＲ性能、ＣＤＵ性能を十分なレベルで発揮可能な感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及びオニウム塩化合物を提供する。下記式（１）で表されるオニウム塩化合物と、酸解離性基を有する構造単位を含む樹脂と、溶剤とを含む感放射線性樹脂組成物。 （上記式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～２０の１価の炭化水素基である。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１～２０の１価の炭化水素基であるか、又はＲ２とＲ３とが互いに合わせられこれらが結合する炭素原子とともに構成される環員数３～２０の環状構造を表す。Ｒ４は、水素原子若しくは炭素数１～２０の１価の炭化水素基であり、かつＬ１は、炭素数１～４０の置換又は非置換の２価の連結基であるか、又はＲ４とＬ１とは互いに合わせられこれらが結合する窒素原子とともに構成される環員数３～２０の複素環構造を含む基を表す。Ｌ２は、単結合又は炭素数１～４０の置換又は非置換の２価の連結基である。Ｒｆ１及びＲｆ２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１～１０の１価の炭化水素基又は炭素数１～１０の１価のフッ素化炭化水素基である。Ｒｆ１及びＲｆ２がそれぞれ複数存在する場合、複数のＲｆ１及びＲｆ２は互いに同一又は異なる。ｎは１～４の整数である。Ｚ＋は、１価の感放射線性オニウムカチオンである。）</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS ; ADHESIVES ; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CHEMISTRY ; CINEMATOGRAPHY ; DYES ; ELECTROGRAPHY ; HETEROCYCLIC COMPOUNDS ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE ; MATERIALS THEREFOR ; METALLURGY ; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS ; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS ; NATURAL RESINS ; ORGANIC CHEMISTRY ; ORIGINALS THEREFOR ; PAINTS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; POLISHES</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220602&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022113814A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220602&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022113814A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>NEMOTO, Ryuichi</creatorcontrib><creatorcontrib>SAKANO, Nozomi</creatorcontrib><title>RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND ONIUM SALT COMPOUND</title><description>Provided are: a radiation-sensitive resin composition able to exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and CDU performance; a method for forming a pattern; and an onium salt compound. This radiation-sensitive resin composition contains an onium salt compound represented by formula (1), a resin containing a structural unit having an acid-dissociable group, and a solvent. In the formula (1), R1 is a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. R2 and R3 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms, or R2 and R3 combine with each other to form a 3-20-membered ring structure together with the carbon atom to which these are bonded. R4 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. L1 is a substituted or unsubstituted divalent linking group having 1-40 carbon atoms, or R4 and L1 combine with each other to form a 3-20-membered heterocyclic ring structure together with the nitrogen atom to which these are bonded. L2 is a single bond or a substituted or unsubstituted divalent linking group having 1-40 carbon atoms. Rf1 and Rf2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or a monovalent fluorinated hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms. In a case where a plurality of Rf1 and Rf2 are present, the plurality of Rf1 and Rf2 may be the same as, or different from, each other. n is an integer between 1 and 4. Z+ is a monovalent radiation-sensitive onium cation.
L'invention concerne : une composition de résine sensible aux rayonnements apte à présenter des niveaux appropriés de sensibilité, de performance LWR et de performance CDU ; un procédé de formation d'un motif, et un composé de sel d'onium. Cette composition de résine sensible aux rayonnements contient un composé de sel d'onium représenté par la formule (1), une résine contenant un motif structural ayant un groupe pouvant être dissocié par un acide, et un solvant. Dans la formule (1), R1 représente un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. R2 et R3 représentent chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou R2 et R3 se combinent l'un avec l'autre pour former une structure cyclique de 3 à 20 chaînons avec l'atome de carbone auquel ils sont liés. R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. L1 est un groupe de liaison divalent substitué ou non substitué ayant de 1 à 40 atomes de carbone, ou R4 et L1 se combinent les uns avec les autres pour former une structure à noyau hétérocyclique de 3 à 20 chaînons conjointement avec l'atome d'azote auquel ils sont liés. L2 est une liaison simple ou un groupe de liaison divalent substitué ou non substitué ayant de 1 à 40 atomes de carbone. Rf1 et Rf2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone. Dans le cas où plusieurs Rf1 et Rf2 sont présents, lesdits Rf1 et Rf2 peuvent être identiques ou différents les uns des autres, n est un nombre entier compris entre 1 et 4. Z+ est un cation onium monovalent sensible aux rayonnements.
感度やＬＷＲ性能、ＣＤＵ性能を十分なレベルで発揮可能な感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及びオニウム塩化合物を提供する。下記式（１）で表されるオニウム塩化合物と、酸解離性基を有する構造単位を含む樹脂と、溶剤とを含む感放射線性樹脂組成物。 （上記式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～２０の１価の炭化水素基である。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１～２０の１価の炭化水素基であるか、又はＲ２とＲ３とが互いに合わせられこれらが結合する炭素原子とともに構成される環員数３～２０の環状構造を表す。Ｒ４は、水素原子若しくは炭素数１～２０の１価の炭化水素基であり、かつＬ１は、炭素数１～４０の置換又は非置換の２価の連結基であるか、又はＲ４とＬ１とは互いに合わせられこれらが結合する窒素原子とともに構成される環員数３～２０の複素環構造を含む基を表す。Ｌ２は、単結合又は炭素数１～４０の置換又は非置換の２価の連結基である。Ｒｆ１及びＲｆ２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１～１０の１価の炭化水素基又は炭素数１～１０の１価のフッ素化炭化水素基である。Ｒｆ１及びＲｆ２がそれぞれ複数存在する場合、複数のＲｆ１及びＲｆ２は互いに同一又は異なる。ｎは１～４の整数である。Ｚ＋は、１価の感放射線性オニウムカチオンである。）</description><subject>ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS</subject><subject>ADHESIVES</subject><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>DYES</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HETEROCYCLIC COMPOUNDS</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS</subject><subject>MISCELLANEOUS COMPOSITIONS</subject><subject>NATURAL RESINS</subject><subject>ORGANIC CHEMISTRY</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PAINTS</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>POLISHES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZIgKcnTxdAzx9PfTDXb1C_YM8QxzVQhyDfb0U3D29w3wB4n4--ko-LqGePi7KLj5B4Gwr6efu0KAY0iIaxBQztHPRcHfzzPUVyHY0ScEoi_Uz4WHgTUtMac4lRdKczMou7mGOHvophbkx6cWFyQmp-allsSH-xsZGBkZGhpbGJo4GhoTpwoAP9wy3A</recordid><startdate>20220602</startdate><enddate>20220602</enddate><creator>NEMOTO, Ryuichi</creator><creator>SAKANO, Nozomi</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220602</creationdate><title>RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND ONIUM SALT COMPOUND</title><author>NEMOTO, Ryuichi ; SAKANO, Nozomi</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022113814A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; jpn</language><creationdate>2022</creationdate><topic>ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS</topic><topic>ADHESIVES</topic><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>DYES</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HETEROCYCLIC COMPOUNDS</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS</topic><topic>MISCELLANEOUS COMPOSITIONS</topic><topic>NATURAL RESINS</topic><topic>ORGANIC CHEMISTRY</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PAINTS</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>POLISHES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>NEMOTO, Ryuichi</creatorcontrib><creatorcontrib>SAKANO, Nozomi</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>NEMOTO, Ryuichi</au><au>SAKANO, Nozomi</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND ONIUM SALT COMPOUND</title><date>2022-06-02</date><risdate>2022</risdate><abstract>Provided are: a radiation-sensitive resin composition able to exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and CDU performance; a method for forming a pattern; and an onium salt compound. This radiation-sensitive resin composition contains an onium salt compound represented by formula (1), a resin containing a structural unit having an acid-dissociable group, and a solvent. In the formula (1), R1 is a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. R2 and R3 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms, or R2 and R3 combine with each other to form a 3-20-membered ring structure together with the carbon atom to which these are bonded. R4 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. L1 is a substituted or unsubstituted divalent linking group having 1-40 carbon atoms, or R4 and L1 combine with each other to form a 3-20-membered heterocyclic ring structure together with the nitrogen atom to which these are bonded. L2 is a single bond or a substituted or unsubstituted divalent linking group having 1-40 carbon atoms. Rf1 and Rf2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or a monovalent fluorinated hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms. In a case where a plurality of Rf1 and Rf2 are present, the plurality of Rf1 and Rf2 may be the same as, or different from, each other. n is an integer between 1 and 4. Z+ is a monovalent radiation-sensitive onium cation.
L'invention concerne : une composition de résine sensible aux rayonnements apte à présenter des niveaux appropriés de sensibilité, de performance LWR et de performance CDU ; un procédé de formation d'un motif, et un composé de sel d'onium. Cette composition de résine sensible aux rayonnements contient un composé de sel d'onium représenté par la formule (1), une résine contenant un motif structural ayant un groupe pouvant être dissocié par un acide, et un solvant. Dans la formule (1), R1 représente un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. R2 et R3 représentent chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou R2 et R3 se combinent l'un avec l'autre pour former une structure cyclique de 3 à 20 chaînons avec l'atome de carbone auquel ils sont liés. R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. L1 est un groupe de liaison divalent substitué ou non substitué ayant de 1 à 40 atomes de carbone, ou R4 et L1 se combinent les uns avec les autres pour former une structure à noyau hétérocyclique de 3 à 20 chaînons conjointement avec l'atome d'azote auquel ils sont liés. L2 est une liaison simple ou un groupe de liaison divalent substitué ou non substitué ayant de 1 à 40 atomes de carbone. Rf1 et Rf2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent ayant de 1 à 10 atomes de carbone. Dans le cas où plusieurs Rf1 et Rf2 sont présents, lesdits Rf1 et Rf2 peuvent être identiques ou différents les uns des autres, n est un nombre entier compris entre 1 et 4. Z+ est un cation onium monovalent sensible aux rayonnements.
感度やＬＷＲ性能、ＣＤＵ性能を十分なレベルで発揮可能な感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及びオニウム塩化合物を提供する。下記式（１）で表されるオニウム塩化合物と、酸解離性基を有する構造単位を含む樹脂と、溶剤とを含む感放射線性樹脂組成物。 （上記式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～２０の１価の炭化水素基である。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１～２０の１価の炭化水素基であるか、又はＲ２とＲ３とが互いに合わせられこれらが結合する炭素原子とともに構成される環員数３～２０の環状構造を表す。Ｒ４は、水素原子若しくは炭素数１～２０の１価の炭化水素基であり、かつＬ１は、炭素数１～４０の置換又は非置換の２価の連結基であるか、又はＲ４とＬ１とは互いに合わせられこれらが結合する窒素原子とともに構成される環員数３～２０の複素環構造を含む基を表す。Ｌ２は、単結合又は炭素数１～４０の置換又は非置換の２価の連結基である。Ｒｆ１及びＲｆ２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１～１０の１価の炭化水素基又は炭素数１～１０の１価のフッ素化炭化水素基である。Ｒｆ１及びＲｆ２がそれぞれ複数存在する場合、複数のＲｆ１及びＲｆ２は互いに同一又は異なる。ｎは１～４の整数である。Ｚ＋は、１価の感放射線性オニウムカチオンである。）</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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