RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND ONIUM SALT COMPOUND

Provided are: a radiation-sensitive resin composition able to exhibit satisfactory levels of sensitivity, LWR performance and CDU performance; a method for forming a pattern; and an onium salt compound. This radiation-sensitive resin composition contains an onium salt compound represented by formula (1), a resin containing a structural unit having an acid-dissociable group, and a solvent. In the formula (1), R1 is a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. R2 and R3 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms, or R2 and R3 combine with each other to form a 3-20-membered ring structure together with the carbon atom to which these are bonded. R4 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms. L1 is a substituted or unsubstituted divalent linking group having 1-40 carbon atoms, or R4 and L1 combine with each other to form a 3-20-membered heterocyclic ring structure together with the nitrogen atom to which these are bonded. L2 is a single bond or a substituted or unsubstituted divalent linking group having 1-40 carbon atoms. Rf1 and Rf2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a monovalent hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms, or a monovalent fluorinated hydrocarbon group having 1-10 carbon atoms. In a case where a plurality of Rf1 and Rf2 are present, the plurality of Rf1 and Rf2 may be the same as, or different from, each other. n is an integer between 1 and 4. Z+ is a monovalent radiation-sensitive onium cation. L'invention concerne : une composition de résine sensible aux rayonnements apte à présenter des niveaux appropriés de sensibilité, de performance LWR et de performance CDU ; un procédé de formation d'un motif, et un composé de sel d'onium. Cette composition de résine sensible aux rayonnements contient un composé de sel d'onium représenté par la formule (1), une résine contenant un motif structural ayant un groupe pouvant être dissocié par un acide, et un solvant. Dans la formule (1), R1 représente un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. R2 et R3 représentent chacun indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou R2 et R3 se combinent l'un avec l'autre pour former une structure cyclique de 3 à 20 chaînons avec l'atome de carbone auquel ils sont liés. R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. L1 est un groupe de liaison