MULTIPLE OBJECTIVES METROLOGY SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND METHODS THEREOF

A metrology or inspection system, a lithographic apparatus, and a method are provided. The system includes an illumination system, an optical system, a first optical device, a second optical device, a detector, and a processor. The optical system is configured to split an illumination beam into a first sub-beam and a second sub-beam. The first optical device is configured to receive the first sub-beam and direct the first sub-beam towards a first spot on a substrate. The substrate includes one or more target structures. The second optical device is configured to receive the second sub-beam and direct the second sub-beam towards a second spot on the substrate. The first spot is a different location than the second spot. The detector is configured to receive diffracted beams and to generate a detection signal. The processor is configured to determine a property of the one or more target structures. La présente invention concerne un système de métrologie ou d'inspection, un appareil lithographique et un procédé. Le système comprend un système d'éclairage, un système optique, un premier dispositif optique, un second dispositif optique, un détecteur et un processeur. Le système optique est conçu pour diviser un faisceau d'éclairage en un premier sous-faisceau et un second sous-faisceau. Le premier dispositif optique est conçu pour recevoir le premier sous-faisceau et pour diriger le premier sous-faisceau vers un premier point sur un substrat. Le substrat comprend une ou plusieurs structures cibles. Le second dispositif optique est conçu pour recevoir le second sous-faisceau et pour diriger le second sous-faisceau vers un second point sur le substrat. Le premier point est un emplacement différent du second point. Le détecteur est conçu pour recevoir des faisceaux diffractés et pour générer un signal de détection. Le processeur est conçu pour déterminer une propriété de la ou des structures cibles.