SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING

A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure...

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Hauptverfasser: SHARMA, Davinder, BREES, Marvin Clayton, WONGSENAKHUM, Panya
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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container_end_page
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container_title
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creator SHARMA, Davinder
BREES, Marvin Clayton
WONGSENAKHUM, Panya
description A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure sensor is to measure a pressure of the gaseous precursor input to the mass flow controller. A controller is to apply power to the electric heater using closed loop control based on the pressure and a pressure setpoint. Un système pour commander un écoulement de gaz comprend une ampoule pour stocker un précurseur solide. Un dispositif de chauffage est destiné à chauffer l'ampoule et à sublimer le précurseur solide en un précurseur gazeux. Un dispositif de commande de débit massique est destiné à réguler l'écoulement de précurseur gazeux de l'ampoule vers une chambre de traitement de substrat. Un capteur de pression est destiné à mesurer une pression de l'entrée de précurseur gazeux dans le régulateur de débit massique. Un dispositif de commande est destiné à appliquer de l'énergie au dispositif de chauffage électrique à l'aide d'une commande en boucle fermée sur la base de la pression et d'une valeur de consigne de pression.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2022109003A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2022109003A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2022109003A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZDANDnXy8fR1DPH091Nw9vcLCfL3UQgN9vRzV3DxD_cLDglydfRVCAhyDQ4ODXJVCHb1A8nxMLCmJeYUp_JCaW4GZTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JL4cH8jAyMjQwNLAwNjR0Nj4lQBANKKKRQ</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING</title><source>esp@cenet</source><creator>SHARMA, Davinder ; BREES, Marvin Clayton ; WONGSENAKHUM, Panya</creator><creatorcontrib>SHARMA, Davinder ; BREES, Marvin Clayton ; WONGSENAKHUM, Panya</creatorcontrib><description>A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure sensor is to measure a pressure of the gaseous precursor input to the mass flow controller. A controller is to apply power to the electric heater using closed loop control based on the pressure and a pressure setpoint. Un système pour commander un écoulement de gaz comprend une ampoule pour stocker un précurseur solide. Un dispositif de chauffage est destiné à chauffer l'ampoule et à sublimer le précurseur solide en un précurseur gazeux. Un dispositif de commande de débit massique est destiné à réguler l'écoulement de précurseur gazeux de l'ampoule vers une chambre de traitement de substrat. Un capteur de pression est destiné à mesurer une pression de l'entrée de précurseur gazeux dans le régulateur de débit massique. Un dispositif de commande est destiné à appliquer de l'énergie au dispositif de chauffage électrique à l'aide d'une commande en boucle fermée sur la base de la pression et d'une valeur de consigne de pression.</description><language>eng ; fre</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20220527&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2022109003A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20220527&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2022109003A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SHARMA, Davinder</creatorcontrib><creatorcontrib>BREES, Marvin Clayton</creatorcontrib><creatorcontrib>WONGSENAKHUM, Panya</creatorcontrib><title>SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING</title><description>A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure sensor is to measure a pressure of the gaseous precursor input to the mass flow controller. A controller is to apply power to the electric heater using closed loop control based on the pressure and a pressure setpoint. Un système pour commander un écoulement de gaz comprend une ampoule pour stocker un précurseur solide. Un dispositif de chauffage est destiné à chauffer l'ampoule et à sublimer le précurseur solide en un précurseur gazeux. Un dispositif de commande de débit massique est destiné à réguler l'écoulement de précurseur gazeux de l'ampoule vers une chambre de traitement de substrat. Un capteur de pression est destiné à mesurer une pression de l'entrée de précurseur gazeux dans le régulateur de débit massique. Un dispositif de commande est destiné à appliquer de l'énergie au dispositif de chauffage électrique à l'aide d'une commande en boucle fermée sur la base de la pression et d'une valeur de consigne de pression.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDANDnXy8fR1DPH091Nw9vcLCfL3UQgN9vRzV3DxD_cLDglydfRVCAhyDQ4ODXJVCHb1A8nxMLCmJeYUp_JCaW4GZTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JL4cH8jAyMjQwNLAwNjR0Nj4lQBANKKKRQ</recordid><startdate>20220527</startdate><enddate>20220527</enddate><creator>SHARMA, Davinder</creator><creator>BREES, Marvin Clayton</creator><creator>WONGSENAKHUM, Panya</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220527</creationdate><title>SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING</title><author>SHARMA, Davinder ; BREES, Marvin Clayton ; WONGSENAKHUM, Panya</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022109003A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2022</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SHARMA, Davinder</creatorcontrib><creatorcontrib>BREES, Marvin Clayton</creatorcontrib><creatorcontrib>WONGSENAKHUM, Panya</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SHARMA, Davinder</au><au>BREES, Marvin Clayton</au><au>WONGSENAKHUM, Panya</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING</title><date>2022-05-27</date><risdate>2022</risdate><abstract>A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure sensor is to measure a pressure of the gaseous precursor input to the mass flow controller. A controller is to apply power to the electric heater using closed loop control based on the pressure and a pressure setpoint. Un système pour commander un écoulement de gaz comprend une ampoule pour stocker un précurseur solide. Un dispositif de chauffage est destiné à chauffer l'ampoule et à sublimer le précurseur solide en un précurseur gazeux. Un dispositif de commande de débit massique est destiné à réguler l'écoulement de précurseur gazeux de l'ampoule vers une chambre de traitement de substrat. Un capteur de pression est destiné à mesurer une pression de l'entrée de précurseur gazeux dans le régulateur de débit massique. Un dispositif de commande est destiné à appliquer de l'énergie au dispositif de chauffage électrique à l'aide d'une commande en boucle fermée sur la base de la pression et d'une valeur de consigne de pression.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre
recordid cdi_epo_espacenet_WO2022109003A1
source esp@cenet
subjects CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL
INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL
METALLURGY
SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
title SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-26T20%3A01%3A14IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=SHARMA,%20Davinder&rft.date=2022-05-27&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2022109003A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true