SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING
A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure...
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creator | SHARMA, Davinder BREES, Marvin Clayton WONGSENAKHUM, Panya |
description | A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure sensor is to measure a pressure of the gaseous precursor input to the mass flow controller. A controller is to apply power to the electric heater using closed loop control based on the pressure and a pressure setpoint.
Un système pour commander un écoulement de gaz comprend une ampoule pour stocker un précurseur solide. Un dispositif de chauffage est destiné à chauffer l'ampoule et à sublimer le précurseur solide en un précurseur gazeux. Un dispositif de commande de débit massique est destiné à réguler l'écoulement de précurseur gazeux de l'ampoule vers une chambre de traitement de substrat. Un capteur de pression est destiné à mesurer une pression de l'entrée de précurseur gazeux dans le régulateur de débit massique. Un dispositif de commande est destiné à appliquer de l'énergie au dispositif de chauffage électrique à l'aide d'une commande en boucle fermée sur la base de la pression et d'une valeur de consigne de pression. |
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Un système pour commander un écoulement de gaz comprend une ampoule pour stocker un précurseur solide. Un dispositif de chauffage est destiné à chauffer l'ampoule et à sublimer le précurseur solide en un précurseur gazeux. Un dispositif de commande de débit massique est destiné à réguler l'écoulement de précurseur gazeux de l'ampoule vers une chambre de traitement de substrat. Un capteur de pression est destiné à mesurer une pression de l'entrée de précurseur gazeux dans le régulateur de débit massique. Un dispositif de commande est destiné à appliquer de l'énergie au dispositif de chauffage électrique à l'aide d'une commande en boucle fermée sur la base de la pression et d'une valeur de consigne de pression.</description><language>eng ; fre</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220527&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022109003A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220527&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022109003A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SHARMA, Davinder</creatorcontrib><creatorcontrib>BREES, Marvin Clayton</creatorcontrib><creatorcontrib>WONGSENAKHUM, Panya</creatorcontrib><title>SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING</title><description>A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure sensor is to measure a pressure of the gaseous precursor input to the mass flow controller. A controller is to apply power to the electric heater using closed loop control based on the pressure and a pressure setpoint.
Un système pour commander un écoulement de gaz comprend une ampoule pour stocker un précurseur solide. Un dispositif de chauffage est destiné à chauffer l'ampoule et à sublimer le précurseur solide en un précurseur gazeux. Un dispositif de commande de débit massique est destiné à réguler l'écoulement de précurseur gazeux de l'ampoule vers une chambre de traitement de substrat. Un capteur de pression est destiné à mesurer une pression de l'entrée de précurseur gazeux dans le régulateur de débit massique. Un dispositif de commande est destiné à appliquer de l'énergie au dispositif de chauffage électrique à l'aide d'une commande en boucle fermée sur la base de la pression et d'une valeur de consigne de pression.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDANDnXy8fR1DPH091Nw9vcLCfL3UQgN9vRzV3DxD_cLDglydfRVCAhyDQ4ODXJVCHb1A8nxMLCmJeYUp_JCaW4GZTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JL4cH8jAyMjQwNLAwNjR0Nj4lQBANKKKRQ</recordid><startdate>20220527</startdate><enddate>20220527</enddate><creator>SHARMA, Davinder</creator><creator>BREES, Marvin Clayton</creator><creator>WONGSENAKHUM, Panya</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220527</creationdate><title>SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING</title><author>SHARMA, Davinder ; BREES, Marvin Clayton ; WONGSENAKHUM, Panya</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022109003A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2022</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SHARMA, Davinder</creatorcontrib><creatorcontrib>BREES, Marvin Clayton</creatorcontrib><creatorcontrib>WONGSENAKHUM, Panya</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SHARMA, Davinder</au><au>BREES, Marvin Clayton</au><au>WONGSENAKHUM, Panya</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>SUBLIMATION CONTROL USING DOWNSTREAM PRESSURE SENSING</title><date>2022-05-27</date><risdate>2022</risdate><abstract>A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure sensor is to measure a pressure of the gaseous precursor input to the mass flow controller. A controller is to apply power to the electric heater using closed loop control based on the pressure and a pressure setpoint.
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