APPARATUS FOR ROTATING SUBSTRATES

Embodiments of the present disclosure generally relate to apparatus for substrate processing, and more specifically to apparatus for rotating substrates and to uses thereof. In an embodiment, an apparatus for rotating a substrate is provided. The apparatus includes a levitatable rotor comprising a p...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PRASAD, Chaitanya A, KAMESH, Giridhar, RAMACHANDRAN, Vinodh, GLOVER, Daniel C, AAMIR, Mohammad
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Embodiments of the present disclosure generally relate to apparatus for substrate processing, and more specifically to apparatus for rotating substrates and to uses thereof. In an embodiment, an apparatus for rotating a substrate is provided. The apparatus includes a levitatable rotor comprising a plurality of magnets embedded therein, a plurality of gas bearings positioned to levitate the levitatable rotor, and a stator magnetically coupled to the levitatable rotor, the stator for producing a rotating magnetic field. Apparatus for processing a substrate with the apparatus for rotating substrates as well as methods of use are also described. Des modes de réalisation de la présente invention concernent de manière générale un appareil de traitement de substrats, et plus précisément, un appareil permettant de faire tourner des substrats ainsi que ses utilisations. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un appareil permettant de faire tourner un substrat. L'appareil comprend un rotor à lévitation comprenant une pluralité d'aimants intégrés, une pluralité de paliers à gaz positionnés pour faire léviter le rotor à lévitation, et un stator couplé magnétiquement au rotor à lévitation, le stator étant destiné à produire un champ magnétique rotatif. Un appareil de traitement de substrats doté de l'appareil permettant de faire tourner des substrats, ainsi que des procédés d'utilisation sont également décrits.