MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD OF USE
A measurement system (11), the measurement system comprising: a sensor apparatus (22); an illumination system (IL1) arranged to illuminate the sensor apparatus with radiation, the sensor apparatus comprising a patterned region arranged to receive a radiation beam and to form a plurality of diffracti...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre |
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| creator | PAGANO, Roberto SPIJKMAN, Mark-Jan WOESSNER, Achim |
| description | A measurement system (11), the measurement system comprising: a sensor apparatus (22); an illumination system (IL1) arranged to illuminate the sensor apparatus with radiation, the sensor apparatus comprising a patterned region arranged to receive a radiation beam and to form a plurality of diffraction beams, the diffraction beams being separated in a shearing direction; the sensor apparatus comprising a radiation detector (24); wherein the patterned region is arranged such that at least some of the diffraction beams form interference patterns on the radiation detector; wherein the sensor apparatus comprises a plurality of patterned regions (19a - 19c, 20a, 20b), and wherein pitches of the patterned regions are different in adjacent patterned regions.
La présente invention concerne un système de mesure (11), le système de mesure comprenant : un appareil de détection (22) ; un système d'éclairage (IL1) disposé de façon à éclairer l'appareil de détection avec un rayonnement, l'appareil de détection comprenant une région à motifs agencée de façon à recevoir un faisceau de rayonnement et à former une pluralité de faisceaux de diffraction, les faisceaux de diffraction étant séparés dans une direction de cisaillement ; l'appareil de détection comprenant un détecteur de rayonnement (24) ; la région à motifs étant agencée de telle sorte qu'au moins certains des faisceaux de diffraction forment des motifs d'interférence sur le détecteur de rayonnement ; l'appareil de détection comprenant une pluralité de régions à motifs (19a - 19c, 20a, 20b), et les pas des régions à motifs étant différents dans des régions à motifs adjacentes. |
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La présente invention concerne un système de mesure (11), le système de mesure comprenant : un appareil de détection (22) ; un système d'éclairage (IL1) disposé de façon à éclairer l'appareil de détection avec un rayonnement, l'appareil de détection comprenant une région à motifs agencée de façon à recevoir un faisceau de rayonnement et à former une pluralité de faisceaux de diffraction, les faisceaux de diffraction étant séparés dans une direction de cisaillement ; l'appareil de détection comprenant un détecteur de rayonnement (24) ; la région à motifs étant agencée de telle sorte qu'au moins certains des faisceaux de diffraction forment des motifs d'interférence sur le détecteur de rayonnement ; l'appareil de détection comprenant une pluralité de régions à motifs (19a - 19c, 20a, 20b), et les pas des régions à motifs étant différents dans des régions à motifs adjacentes.</description><language>eng ; fre</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; COLORIMETRY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT ; MEASURING ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; RADIATION PYROMETRY ; TESTING ; TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES ; TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220519&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022100930A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220519&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2022100930A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>PAGANO, Roberto</creatorcontrib><creatorcontrib>SPIJKMAN, Mark-Jan</creatorcontrib><creatorcontrib>WOESSNER, Achim</creatorcontrib><title>MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD OF USE</title><description>A measurement system (11), the measurement system comprising: a sensor apparatus (22); an illumination system (IL1) arranged to illuminate the sensor apparatus with radiation, the sensor apparatus comprising a patterned region arranged to receive a radiation beam and to form a plurality of diffraction beams, the diffraction beams being separated in a shearing direction; the sensor apparatus comprising a radiation detector (24); wherein the patterned region is arranged such that at least some of the diffraction beams form interference patterns on the radiation detector; wherein the sensor apparatus comprises a plurality of patterned regions (19a - 19c, 20a, 20b), and wherein pitches of the patterned regions are different in adjacent patterned regions.
La présente invention concerne un système de mesure (11), le système de mesure comprenant : un appareil de détection (22) ; un système d'éclairage (IL1) disposé de façon à éclairer l'appareil de détection avec un rayonnement, l'appareil de détection comprenant une région à motifs agencée de façon à recevoir un faisceau de rayonnement et à former une pluralité de faisceaux de diffraction, les faisceaux de diffraction étant séparés dans une direction de cisaillement ; l'appareil de détection comprenant un détecteur de rayonnement (24) ; la région à motifs étant agencée de telle sorte qu'au moins certains des faisceaux de diffraction forment des motifs d'interférence sur le détecteur de rayonnement ; l'appareil de détection comprenant une pluralité de régions à motifs (19a - 19c, 20a, 20b), et les pas des régions à motifs étant différents dans des régions à motifs adjacentes.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>COLORIMETRY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT</subject><subject>MEASURING</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>RADIATION PYROMETRY</subject><subject>TESTING</subject><subject>TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES</subject><subject>TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFDxdXUMDg1y9XX1C1EIjgwOcfVVcPRzUfB1DfHwd1Hwd1MIDXblYWBNS8wpTuWF0twMym6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXx4f5GBkZGhgYGlsYGjobGxKkCAASdI8I</recordid><startdate>20220519</startdate><enddate>20220519</enddate><creator>PAGANO, Roberto</creator><creator>SPIJKMAN, Mark-Jan</creator><creator>WOESSNER, Achim</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220519</creationdate><title>MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD OF USE</title><author>PAGANO, Roberto ; SPIJKMAN, Mark-Jan ; WOESSNER, Achim</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2022100930A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2022</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>COLORIMETRY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT</topic><topic>MEASURING</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>RADIATION PYROMETRY</topic><topic>TESTING</topic><topic>TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES</topic><topic>TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>PAGANO, Roberto</creatorcontrib><creatorcontrib>SPIJKMAN, Mark-Jan</creatorcontrib><creatorcontrib>WOESSNER, Achim</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>PAGANO, Roberto</au><au>SPIJKMAN, Mark-Jan</au><au>WOESSNER, Achim</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD OF USE</title><date>2022-05-19</date><risdate>2022</risdate><abstract>A measurement system (11), the measurement system comprising: a sensor apparatus (22); an illumination system (IL1) arranged to illuminate the sensor apparatus with radiation, the sensor apparatus comprising a patterned region arranged to receive a radiation beam and to form a plurality of diffraction beams, the diffraction beams being separated in a shearing direction; the sensor apparatus comprising a radiation detector (24); wherein the patterned region is arranged such that at least some of the diffraction beams form interference patterns on the radiation detector; wherein the sensor apparatus comprises a plurality of patterned regions (19a - 19c, 20a, 20b), and wherein pitches of the patterned regions are different in adjacent patterned regions.
La présente invention concerne un système de mesure (11), le système de mesure comprenant : un appareil de détection (22) ; un système d'éclairage (IL1) disposé de façon à éclairer l'appareil de détection avec un rayonnement, l'appareil de détection comprenant une région à motifs agencée de façon à recevoir un faisceau de rayonnement et à former une pluralité de faisceaux de diffraction, les faisceaux de diffraction étant séparés dans une direction de cisaillement ; l'appareil de détection comprenant un détecteur de rayonnement (24) ; la région à motifs étant agencée de telle sorte qu'au moins certains des faisceaux de diffraction forment des motifs d'interférence sur le détecteur de rayonnement ; l'appareil de détection comprenant une pluralité de régions à motifs (19a - 19c, 20a, 20b), et les pas des régions à motifs étant différents dans des régions à motifs adjacentes.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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