MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD OF USE

A measurement system (11), the measurement system comprising: a sensor apparatus (22); an illumination system (IL1) arranged to illuminate the sensor apparatus with radiation, the sensor apparatus comprising a patterned region arranged to receive a radiation beam and to form a plurality of diffraction beams, the diffraction beams being separated in a shearing direction; the sensor apparatus comprising a radiation detector (24); wherein the patterned region is arranged such that at least some of the diffraction beams form interference patterns on the radiation detector; wherein the sensor apparatus comprises a plurality of patterned regions (19a - 19c, 20a, 20b), and wherein pitches of the patterned regions are different in adjacent patterned regions. La présente invention concerne un système de mesure (11), le système de mesure comprenant : un appareil de détection (22) ; un système d'éclairage (IL1) disposé de façon à éclairer l'appareil de détection avec un rayonnement, l'appareil de détection comprenant une région à motifs agencée de façon à recevoir un faisceau de rayonnement et à former une pluralité de faisceaux de diffraction, les faisceaux de diffraction étant séparés dans une direction de cisaillement ; l'appareil de détection comprenant un détecteur de rayonnement (24) ; la région à motifs étant agencée de telle sorte qu'au moins certains des faisceaux de diffraction forment des motifs d'interférence sur le détecteur de rayonnement ; l'appareil de détection comprenant une pluralité de régions à motifs (19a - 19c, 20a, 20b), et les pas des régions à motifs étant différents dans des régions à motifs adjacentes.