SEMICONDUCTOR PROCESSING CHAMBER ARCHITECTURE FOR HIGHER THROUGHPUT AND FASTER TRANSITION TIME

Exemplary substrate processing systems may include a chamber body defining a transfer region. The systems may include a lid plate seated on the chamber body along a first surface of the lid plate. The lid plate may define a plurality of apertures through the lid plate. The lid plate may further define a recess about each aperture of the plurality of apertures in the first surface of the lid plate. Each recess may extend partially through a thickness of the lid plate. The systems may include a plurality of lid stacks equal to a number of apertures of the plurality of apertures. Each recess may receive at least a portion of one of the lid stacks of the plurality of lid stacks. The plurality of lid stacks may at least partially define a plurality of processing regions vertically offset from the transfer region. L'invention concerne des exemples de systèmes de traitement de substrat qui peuvent comprendre un corps de chambre définissant une région de transfert. Les systèmes peuvent comprendre une première plaque de couvercle reposant sur le corps de chambre le long d'une première surface de la plaque de couvercle. La plaque de couvercle peut définir une pluralité d'ouvertures à travers la plaque de couvercle. La plaque de couvercle peut en outre définir un évidement autour de chaque ouverture de la pluralité d'ouvertures dans la première surface de la plaque de couvercle. Chaque évidement peut s'étendre partiellement à travers une épaisseur de la plaque de couvercle. Les systèmes peuvent comprendre une pluralité d'empilements de couvercles égaux à un certain nombre d'ouvertures de la pluralité d'ouvertures. Chaque évidement peut recevoir au moins une partie de l'un des empilements de couvercles de la pluralité d'empilements de couvercles. La pluralité d'empilements de couvercles peut définir au moins partiellement une pluralité de régions de traitement décalées verticalement par rapport à la région de transfert.