RAPID CHAMBER VACUUM LEAK CHECK HARDWARE AND MAINTENANCE ROUTINE
Methods and apparatus for detecting a vacuum leak within a processing chamber are described herein. More specifically, the methods and apparatus relate to the utilization of a spectral measurement device, such as a spectral gauge, to determine the leak rate within a process chamber while the process...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Methods and apparatus for detecting a vacuum leak within a processing chamber are described herein. More specifically, the methods and apparatus relate to the utilization of a spectral measurement device, such as a spectral gauge, to determine the leak rate within a process chamber while the process chamber is held at a leak test pressure. The spectral measurement device determines the rate of increase of one or more gases within the processing chamber and can be used to determine if the processing chamber passes or fails the leak test.
La présente invention concerne des procédés et des appareils pour la détection d'une fuite de vide dans une chambre de traitement. Plus précisément, les procédés et les appareils concernent l'utilisation d'un dispositif de mesure spectrale, telle qu'une jauge spectrale, pour déterminer le débit de fuite dans une chambre de traitement pendant que la chambre de traitement est maintenue à une pression d'essai d'étanchéité. Le dispositif de mesure spectrale détermine le taux d'accroissement d'un ou de plusieurs gaz à l'intérieur de la chambre de traitement, et peut être utilisé pour déterminer si la chambre de traitement réussit ou échoue à l'essai d'étanchéité. |
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