PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING A HEATING DEVICE AND A POLARIZER

The invention relates to a projection exposure apparatus (1) for semiconductor lithography, comprising a heating device (25) for heating optical elements (29) of the projection exposure apparatus (1) by means of heating radiation (31) and comprising a polarizer (37) for splitting the heating radiation (31) into at least two differently polarized heating beam portions (33, 34). Here, at least one polarization modulator (39) is present for modifying the polarization of at least one of the differently polarized heating beam portions (33, 34). L'invention concerne un appareil d'exposition par projection (1) destiné à la lithographie à semi-conducteurs, comprenant un dispositif de chauffage (25) permettant de chauffer des éléments optiques (29) de l'appareil d'exposition par projection (1) au moyen d'un rayonnement de chauffage (31) et comprenant un polariseur (37) permettant de diviser le rayonnement de chauffage (31) en au moins deux parties de faisceau de chauffage (33, 34) à polarisation différente. Au moins un modulateur de polarisation (39) est ici présent pour modifier la polarisation d'au moins une des parties de faisceau de chauffage (33, 34) à polarisation différente.