NITRIC OXIDE GENERATION PROCESS CONTROLS
The present disclosure describes systems and methods for controlling the electrical generation of nitric oxide. In some aspects, a system for generating nitric oxide comprises a plasma chamber housing two or more electrodes in communication with a resonant high voltage circuit configured to send a s...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | The present disclosure describes systems and methods for controlling the electrical generation of nitric oxide. In some aspects, a system for generating nitric oxide comprises a plasma chamber housing two or more electrodes in communication with a resonant high voltage circuit configured to send a signal to the plasma chamber for generating nitric oxide in a product gas from a flow of a reactant gas, and a controller configured to generate a pulse width modulation signal having multiple harmonic frequencies to excite the resonant high voltage circuit. The controller is configured to adjust the duty cycle of the pulse width modulation signal, the controller selecting the duty cycle based on a target voltage before plasma formation and a target current after plasma formation in the plasma chamber.
La présente divulgation décrit des systèmes et des procédés qui permettent de commander la génération électrique d'oxyde nitrique. Selon certains aspects, un système de génération d'oxyde nitrique comprend une chambre à plasma logeant au moins deux électrodes en communication avec un circuit résonant à haute tension conçu pour envoyer un signal à la chambre à plasma afin de générer de l'oxyde nitrique dans un produit gazeux à partir d'un flux de gaz réactif, et un dispositif de commande conçu pour générer un signal de modulation de largeur d'impulsion ayant de multiples fréquences harmoniques pour exciter le circuit résonant à haute tension. Le dispositif de commande est conçu pour ajuster le rapport cyclique du signal de modulation de largeur d'impulsion, ledit dispositif de commande sélectionne le rapport cyclique sur la base d'une tension cible avant la formation de plasma et d'un courant cible après la formation de plasma dans la chambre à plasma. |
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