PUSH-PULL POWER SUPPLY FOR MULTI-MESH PROCESSING CHAMBERS

A radio-frequency (RF) power circuit for a multi-electrode cathode in a processing chamber may include an RF source and inductive element(s) that are conductively coupled to the RF source. A first inductive element may be inductively coupled to the inductive element(s), and the first inductive element may be configured to receive a first portion of RF power originating from the RF source and provide the first portion of the RF power for a first pedestal electrode. A second inductive element may also be inductively coupled to the inductive element(s), and the second inductive element may be configured to receive a second portion of RF power originating from the RF source through the inductive element(s) and provide the second portion of the RF power for a second pedestal electrode. L'invention concerne un circuit d'alimentation radiofréquence (RF) pour une cathode à électrodes multiples dans une chambre de traitement qui peut comprendre une source RF et un élément inductif (s) qui sont couplés de manière conductrice à la source RF. Un premier élément inductif peut être couplé par induction à l'élément inductif (s), et le premier élément inductif peut être configuré pour recevoir une première partie de puissance RF provenant de la source RF et fournir la première partie de la puissance RF pour une première électrode de socle. Un second élément inductif peut également être couplé par induction à l'élément inductif (s), et le second élément inductif peut être configuré pour recevoir une seconde partie de puissance RF provenant de la source RF à travers l'élément inductif (s) et fournir la seconde partie de la puissance RF pour une seconde électrode de socle.