CONDUCTIVE PHOTO-CURABLE COMPOSITIONS FOR ADDITIVE MANUFACTURING

A photo-curable composition for use in additive manufacturing, said composition comprising: a) at least one photocurable monomer or oligomer; b) a photoinitiator for polymerization of the monomer; and, from 0.01 to 1 wt.%, based on the weight of the composition, of c) CNS-derived materials. Followin...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CHEN, Limeng, SULLIVAN, Sean S, FITZPATRICK, Darragh, KUTSOVSKY, Yakov E, ZHANG, Han, HERSEE, Rachel, SHAH, Tushar, ZHANG, Xiaofeng, SANCHEZ GARCIA, Angelica M, KYRLIDIS, Agathagelos, WALTER, Pablo
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A photo-curable composition for use in additive manufacturing, said composition comprising: a) at least one photocurable monomer or oligomer; b) a photoinitiator for polymerization of the monomer; and, from 0.01 to 1 wt.%, based on the weight of the composition, of c) CNS-derived materials. Following polymerization, the resulting polymerized composition has a volume resistivity no greater than 105 ohm.cm. Composition photodurcissable destinée à être utilisée dans la fabrication additive, ladite composition comprenant : a) au moins un monomère ou oligomère photodurcissable ; b) un photoinitiateur pour la polymérisation du monomère ; et, de 0,01 à 1 % en poids, sur la base du poids de la composition, de (c) matériaux dérivés de CNS. Après polymérisation, la composition polymérisée obtenue présente une résistivité volumique inférieure ou égale à 105 ohm.cm.