CONDUCTIVE PHOTO-CURABLE COMPOSITIONS FOR ADDITIVE MANUFACTURING
A photo-curable composition for use in additive manufacturing, said composition comprising: a) at least one photocurable monomer or oligomer; b) a photoinitiator for polymerization of the monomer; and, from 0.01 to 1 wt.%, based on the weight of the composition, of c) CNS-derived materials. Followin...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | A photo-curable composition for use in additive manufacturing, said composition comprising: a) at least one photocurable monomer or oligomer; b) a photoinitiator for polymerization of the monomer; and, from 0.01 to 1 wt.%, based on the weight of the composition, of c) CNS-derived materials. Following polymerization, the resulting polymerized composition has a volume resistivity no greater than 105 ohm.cm.
Composition photodurcissable destinée à être utilisée dans la fabrication additive, ladite composition comprenant : a) au moins un monomère ou oligomère photodurcissable ; b) un photoinitiateur pour la polymérisation du monomère ; et, de 0,01 à 1 % en poids, sur la base du poids de la composition, de (c) matériaux dérivés de CNS. Après polymérisation, la composition polymérisée obtenue présente une résistivité volumique inférieure ou égale à 105 ohm.cm. |
---|