METHOD OF PERFORMING METROLOGY, METHOD OF TRAINING A MACHINE LEARNING MODEL, METHOD OF PROVIDING A LAYER COMPRISING A TWO-DIMENSIONAL MATERIAL, METROLOGY APPARATUS

Methods of performing metrology are disclosed. In one arrangement a substrate is provided that has a layer formed on the substrate. The layer comprises a two-dimensional material. A target portion of the layer is illuminated with a beam of radiation and a distribution of radiation in a pupil plane is detected to obtain measurement data. The measurement data is processed to obtain metrology information about the target portion of the layer. The illuminating, detecting and processing are performed for plural different target portions of the layer to obtain metrology information for the plural target portions of the layer. Sont divulgués ici des procédés de mise en œuvre de métrologie. Dans un agencement, un substrat comporte une couche formée sur le substrat. La couche comprend un matériau bidimensionnel. Une partie cible de la couche est éclairée par un faisceau de rayonnement et une distribution de rayonnement dans un plan de pupille est détectée pour obtenir des données de mesure. Les données de mesure sont traitées pour obtenir des informations de métrologie concernant la partie cible de la couche. L'éclairage, la détection et le traitement sont mis en œuvre pour plusieurs parties cibles différentes de la couche pour obtenir des informations de métrologie relatives aux multiples parties cibles de la couche.