PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND PRODUCTION EXPOSURE METHOD

A projection exposure device (10) that comprises a mask mark illumination light source (21) that can radiate exposure light or first alignment light (L1) that has the same wavelength as the exposure light at a mask mark (MM), a work mark illumination light source (31) that can radiate second alignment light (L2) that has a different wavelength from the exposure light at a work mark (WM), an imaging device (32), and an imaging optical system (40). The imaging optical system (40) comprises: a first dichroic prism (41) that synthesizes the first alignment light (L1) and light from the work mark (WM) and emits the synthesized light toward the imaging device (32); and an optical path length modification optical system (42) that makes the first alignment light (L1) branch and converge. Relative to the imaging device (32), the optical positions of the work mark (WM) and an image (MMI) of the mask mark (MM) are equivalent. The present invention thereby provides a projection exposure device and a projection exposure method that make it possible to achieve highly precise alignment even when an exposure area is small. L'invention concerne un dispositif d'exposition par projection (10) qui comprend une source de lumière d'éclairage (21) de marque de masque qui peut émettre une lumière d'exposition ou une première lumière d'alignement (L1) qui a la même longueur d'onde que la lumière d'exposition au niveau d'une marque de masque (MM), une source de lumière d'éclairage (31) de marque de travail qui peut émettre une seconde lumière d'alignement (L2) qui a une longueur d'onde différente de la lumière d'exposition au niveau d'une marque de travail (WM), un dispositif d'imagerie (32) et un système optique d'imagerie (40). Le système optique d'imagerie (40) comprend : un premier prisme dichroïque (41) qui synthétise la première lumière d'alignement (L1) et la lumière provenant de la marque de travail (WM) et qui émet la lumière synthétisée vers le dispositif d'imagerie (32) ; et un système optique de modification de longueur de trajet optique (42) qui fait ramifier et converger la première lumière d'alignement (L1). Par rapport au dispositif d'imagerie (32), les positions optiques de la marque de travail (WM) et une image (MMI) de la marque de masque (MM) sont équivalentes. La présente invention concerne ainsi un dispositif d'exposition par projection et un procédé d'exposition par projection qui permettent d'obtenir un alignement très précis même lorsqu'une zone d'expositio