METHOD FOR GENERATING A TEMPORALLY CONSTANT VAPOUR FLOW, AND METHOD FOR SETTING AN OPERATING POINT OF A DEVICE FOR GENERATING VAPOUR

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Einstellen des Arbeitspunktes (P) einer Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes, bei dem mit einer Dosiervorrichtung (1) bei einem Einstellwert (r) eines Dosierelementes (5) ein Massenfluss eines Pulvers (7) erzeugt wird, das in einen Verdampfer (9) bei einer...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: BRAST, Michael, WURZINGER, Olaf Martin, CREMER, Claudia, LINDLA, Florian
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Einstellen des Arbeitspunktes (P) einer Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes, bei dem mit einer Dosiervorrichtung (1) bei einem Einstellwert (r) eines Dosierelementes (5) ein Massenfluss eines Pulvers (7) erzeugt wird, das in einen Verdampfer (9) bei einer Verdampfungstemperatur (T) verdampft wird und von einem Trägergas durch eine Dampfableitung (17) gefördert wird. Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, dass in einem ersten Schritt eine erste Verdampfungstemperatur (T1) und ein Einstellwert (r1, r2, r3, r4, r5) ermittelt werden, bei denen sich der Dampffluss (V) durch Variation des Einstellwertes (r) von einem unteren Wert (r1) unterhalb eines Sollwertes(Vs) des Dampfflusses (V) insbesondere in linearer Weise durch Steigerung des Einstellwertes (r) zu einem oberen Wert (r5) oberhalb des Sollwertes (Vs) ändert. The invention relates to a method for setting the operating point (P) of a device for generating vapour, in which method a mass flow of a powder (7) is generated by means of a metering device (1) at a setting (r) of a metering element (5), said powder being vaporised in a vaporiser (9) at a vaporisation temperature (T) and being conveyed by a carrier gas through a vapour discharge line (17). According to the invention, in a first step, a first vaporisation temperature (T1) and a setting (r1, r2, r3, r4, r5) are determined at which the vapour flow (V) changes when the setting (r) is varied from a lower value (r1) that is below a setpoint value (Vs) for the vapour flow (V), in particular changes linearly when the setting (r) is increased to an upper value (r5) that is above the setpoint value (Vs). L'invention concerne un procédé de réglage du point de fonctionnement (P) d'un dispositif de génération de vapeur, dans lequel un débit massique d'une poudre (7) est produit au moyen d'un dispositif doseur (1) à un réglage (r) d'un élément doseur (5), ladite poudre étant vaporisée dans un vaporiseur (9) à une température de vaporisation (T) et étant transportée par un gaz porteur à travers une conduite d'évacuation de vapeur (17). Selon l'invention, dans une première étape, une première température de vaporisation (T1) et un réglage (r1, r2, r3, r4, r5) sont déterminés auxquels le débit de vapeur (V) change lorsque le réglage (r) varie entre une valeur inférieure (r1) qui est inférieure à une valeur de consigne (Vs) pour le débit de vapeur (V), en particulier change de manière linéaire lorsque le réglage (r) est augm