METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING PLASMA PROCESS BY USING SMART SENSOR

The present invention relates to a method and a system for controlling a plasma process by using a smart sensor, the method comprising the steps of: correcting, by the smart sensor, spectral data by classifying the spectral data included in sensing data generated at a first time point of a plasma process for each specific gas; predicting plasma process information for a second time point after the first time point on the basis of the spectral data corrected by the smart sensor; and controlling a process factor related to the plasma process according to whether or not the plasma process information predicted by the smart sensor is normal. Other embodiments are also possible. L'invention concerne un procédé et un système de commande d'un traitement au plasma au moyen d'un capteur intelligent, le procédé consistant : à corriger des données spectrales, au moyen du capteur intelligent, par classification des données spectrales contenues dans des données de détection générées à un premier point temporel d'un traitement au plasma pour chaque gaz spécifique ; à prédire des informations de traitement au plasma pour un deuxième point temporel après le premier point temporel, en fonction des données spectrales corrigées par le capteur intelligent ; et à commander un facteur de traitement associé au traitement au plasma selon que les informations de traitement au plasma prédites par le capteur intelligent sont normales ou non. D'autres modes de réalisation sont également possibles. 본 발명은 스마트센서를 이용한 플라즈마 공정 제어 방법 및 시스템에 관한 것으로, 스마트센서가 플라즈마 공정의 제1 시점에 발생되는 센싱데이터에 포함된 스펙트럼 데이터를 가스 종별로 분류하여 스펙트럼 데이터를 보정하는 단계, 스마트센서가 보정된 스펙트럼 데이터를 기반으로 제1 시점 이후의 제2 시점에 대한 플라즈마 공정정보를 예측하는 단계 및 제어장치가 스마트센서에서 예측된 플라즈마 공정정보의 정상여부에 따라 플라즈마 공정과 관련된 공정 인자를 제어하는 단계를 포함하며 다른 실시 예로도 적용이 가능하다.