PHOTOMASK CONTAINER

The present invention provides a photomask container that can firmly hold a photomask substrate, suppresses condensation of a photomask substrate accommodation part, provides an excellent level of cleanliness, does not easily allow the adherence of debris (fine particles) to the surface of the photomask substrate, and is lightweight and has a superior level of mechanical strength. The photomask substrate accommodation part is formed via a container body and a lid body, and the photomask container is used to store and transport the photomask substrate in a state of being accommodated in the photomask substrate accommodation part. The photomask container is characterized in that the container body is a box-shaped body formed from a high-density polyethylene resin having a melt flow rate (MFR) of 0.6 (g/10 min) or less and comprises a substantially planar-shaped base section and a side wall section installed in a direction substantially perpendicular from an end part of the base section, and is a two-layer hollow structure comprising an inner wall and an outer wall. La présente invention concerne un récipient pour photomasque qui peut maintenir fermement un substrat de photomasque, qui supprime la condensation dans une partie de réception de substrat de photomasque, qui fournit un excellent niveau de propreté, qui rend difficile l'adhérence de débris (particules fines) sur la surface du substrat de photomasque, et qui est léger et qui présente un niveau supérieur de résistance mécanique. La partie de réception de substrat de photomasque est formée par l'intermédiaire d'un corps de récipient et d'un corps de couvercle, et le récipient de photomasque est utilisé pour stocker et transporter le substrat de photomasque dans un état dans lequel il est logé dans la partie de réception de substrat de photomasque. Le récipient de photomasque est caractérisé en ce que le corps de récipient est un corps en forme de boîte formé à partir d'une résine de polyéthylène haute densité ayant un indice de fluidité à chaud (MFR) de 0,6 (g/10 min) ou moins et comprend une section de base sensiblement plane et une section de paroi latérale installée dans une direction sensiblement perpendiculaire par rapport à une partie d'extrémité de la section de base, et en ce qu'il est une structure creuse à deux couches comprenant une paroi interne et une paroi externe. 本発明は、フォトマスク基板を強固に保持することができ、フォトマスク基板収納部の結露が抑制されており、クリーン度が優れており、フォトマスク基板表面にゴミ（微細粒子）が付着しにくく、且つ、軽量で機械的強度の優れたフォトマスク容器を提供する。 容器本体と