VACUUM PUMP AND CLEANING SYSTEM FOR VACUUM PUMP
Provided is a vacuum pump that can effectively discharge byproducts outside by decomposing the byproducts into particles using radicals. This vacuum pump comprises: an outer barrel (127) having an intake port (101) and an exhaust port (133); a rotor shaft (113) rotatably supported inside the outer b...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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Zusammenfassung: | Provided is a vacuum pump that can effectively discharge byproducts outside by decomposing the byproducts into particles using radicals. This vacuum pump comprises: an outer barrel (127) having an intake port (101) and an exhaust port (133); a rotor shaft (113) rotatably supported inside the outer barrel (127); and a rotary body (103) which has a plurality of rotary blades (102) fixed to the rotor shaft (113) and can rotate together with the rotor shaft (113), the vacuum pump further comprising at least one radical supply port (201a) that can supply multiple types of radicals into the outer barrel (127) and a radical supply means (201) which supplies radicals to the radical supply port (201a).
L'invention concerne une pompe à vide qui peut évacuer efficacement des sous-produits à l'extérieur en décomposant les sous-produits en particules à l'aide de radicaux. Cette pompe à vide comprend: un cylindre extérieur (127) ayant un orifice d'admission (101) et un orifice d'échappement (133); un arbre de rotor (113) supporté rotatif à l'intérieur du cylindre extérieur (127); et un corps rotatif (103) qui comporte une pluralité de pales rotatives (102) fixées à l'arbre de rotor (113) et qui peut tourner conjointement avec l'arbre de rotor (113), la pompe à vide comprenant en outre au moins un orifice d'alimentation en radicaux (201a) qui peut fournir de multiples types de radicaux dans le cylindre extérieur (127) et un moyen d'alimentation en radicaux (201) qui fournit des radicaux à l'orifice d'alimentation en radicaux (201a).
副生成施物をラジカルにより分解して粒子化し、外部に効果的に排出できる真空ポンプを提供する。 吸気口(101)と排気口(133)とを有する外筒(127)と、外筒(127)の内側に、回転自在に支持されたロータ軸(113)と、ロータ軸(113)に固定された複数の回転翼(102)を有し、ロータ軸(113)と共に回転可能な回転体(103)と、を備えた真空ポンプであって、複数の種類のラジカルを外筒(127)内に供給可能な、少なくとも一つのラジカル供給口(201a)と前記ラジカル供給口(201a)にラジカルを供給するラジカル供給手段(201)を備える。 |
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