SPECTROMETRIC METROLOGY SYSTEMS BASED ON MULTIMODE INTERFERENCE AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

A metrology system comprises a radiation source, an optical element, first and second detectors, an integrated optical device comprising a multimode waveguide, and a processor. The radiation source generates radiation. The optical element directs radiation toward a target to generate scattered radia...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SWILLAM, Mohamed, KREUZER, Justin, ROUX, Stephen
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MATERIALS THEREFOR MEASURING ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	A metrology system comprises a radiation source, an optical element, first and second detectors, an integrated optical device comprising a multimode waveguide, and a processor. The radiation source generates radiation. The optical element directs radiation toward a target to generate scattered radiation from the target. The first detector receives a first portion of the scattered radiation and generates a first detection signal based on the received first portion. The multimode waveguide interferes a second portion of the scattered radiation using modes of the multimode waveguide. The second detector receives the interfered second portion and generates a second detection signal based on the received interfered second portion. The processor receives the first and second detection signals. The processor analyzes the received first portion, the received interfered second portion, and a propagation property of the multimode waveguide. The processor determines the property of the target based on the analysis. La présente invention concerne un système de métrologie qui comprend une source de rayonnement, un élément optique, des premier et second détecteurs, un dispositif optique intégré comprenant un guide d'ondes multimode, et un processeur. La source de rayonnement génère un rayonnement. L'élément optique dirige le rayonnement vers une cible pour générer un rayonnement diffusé à partir de la cible. Le premier détecteur reçoit une première partie du rayonnement diffusé et génère un premier signal de détection sur la base de la première partie reçue. Le guide d'ondes multimode crée de l'interférence dans une seconde partie du rayonnement diffusé à l'aide de modes du guide d'ondes multimode. Le second détecteur reçoit la seconde partie ayant subi l'interférence et génère un second signal de détection sur la base de la seconde partie reçue ayant subi l'interférence. Le processeur reçoit les premier et second signaux de détection. Le processeur analyse la première partie reçue, la seconde partie reçue ayant subi l'interférence, et une propriété de propagation du guide d'ondes multimode. Le processeur détermine la propriété de la cible sur la base de l'analyse.