METHOD OF DETERMINING A CORRECTION STRATEGY IN A SEMICONDUCTOR MANUFACTURE PROCESS AND ASSOCIATED APPARATUSES

A method of determining a correction strategy in a semiconductor manufacture process is disclosed. The method comprises obtaining functional indicator data relating to functional indicators associated with one or more process parameters of each of a plurality of different control regimes of the semiconductor manufacture process and/or a tool associated with said semiconductor manufacture process and using a trained model to determine for which of said control regimes should a correction be determined so as to at improve performance of said semiconductor manufacture process according to at least one quality metric being representative of a quality of the semiconductor manufacture process. The correction is then calculated for the determined control regime(s). L'invention concerne un procédé de détermination d'une stratégie de correction dans un processus de fabrication de semi-conducteurs. Le procédé comprend l'obtention de données d'indicateur fonctionnel relatives à des indicateurs fonctionnels associés à un ou à plusieurs paramètres de processus de chacun d'une pluralité de régimes de commande différents du processus de fabrication de semi-conducteurs et/ou d'un outil associé audit processus de fabrication de semi-conducteurs, ainsi que l'utilisation d'un modèle entraîné pour déterminer quels régimes de commande nécessitent qu'une correction soit déterminée de manière à améliorer les performances dudit processus de fabrication de semi-conducteurs en fonction d'au moins une mesure de qualité représentative d'une qualité du processus de fabrication de semi-conducteurs. La correction est ensuite calculée pour le ou les régimes de commande déterminés.