SPM PROCESSING OF SUBSTRATES

A substrate cleaning system to remove particulates from multiple substrates includes a first container for applying a cleaning liquid to substrates, a second container for applying a rinsing liquid to substrates, and a robot system. The first container includes at least two openable and closable access ports in a top of the first container and a plurality of supports to hold the substrates at respective edges in the first container. The second container has a plurality of supports to hold the substrates at respective edges in the second container. The robot system transports substrates through the at least two openable and closable access ports in the top of the first container, and transports substrates through a top of the second container. Un système de nettoyage de substrat destiné à éliminer des particules de multiples substrats comprend un premier récipient pour appliquer un liquide de nettoyage à des substrats, un second récipient pour appliquer un liquide de rinçage à des substrats et un système robotisé. Le premier récipient comprend au moins deux orifices d'accès pouvant être ouverts et fermés dans une partie supérieure du premier récipient et une pluralité de supports pour maintenir les substrats au niveau de bords respectifs dans le premier récipient. Le second récipient comporte une pluralité de supports pour maintenir les substrats au niveau de bords respectifs dans le second récipient. Le système robotisé transporte des substrats à travers les au moins deux orifices d'accès pouvant être ouverts et fermés dans la partie supérieure du premier récipient, et transporte des substrats à travers une partie supérieure du second récipient.