SURFACE FLUORINATION REMEDIATION FOR ALUMINIUM OXIDE ELECTROSTATIC CHUCKS

Embodiments are disclosed for reducing substrate breaks which result from inadequate de-chucking. Contaminants are removed from the surface of a chuck by exposing the chuck to a plasma process that comprises a hydrogen (H)-containing plasma. The chuck is subjected to the hydrogen-based plasma when no substrate is on the chuck. In one embodiment, the plasma is a hydrocarbon-based plasma. Hydrogen in the hydrocarbon plasma may react with and remove the contaminants. The process may further include an additional plasma step for removal of any newly formed materials that may result from the hydrocarbon plasma. The removal step may be, for example, a subsequent plasma ash step. In one embodiment, the chuck is an electrostatic chuck and the contaminants comprise fluorine. By removing contaminants from the chuck surface, improved substrate de-chucking occurs. This improvement correspondingly leads to less substrate breakage when removing substrates from the chuck. Sont divulgués ici des modes de réalisation qui permettent de réduire les ruptures de substrat résultant d'un démandrinage inadéquat. Des contaminants sont éliminés de la surface d'un mandrin par exposition du mandrin à un traitement au plasma qui comprend un plasma contenant de l'hydrogène (H). Le mandrin est soumis au plasma à base d'hydrogène lorsque aucun substrat n'est sur le mandrin. Dans un mode de réalisation, le plasma est un plasma à base d'hydrocarbure. L'hydrogène dans le plasma d'hydrocarbure peut réagir avec les contaminants et éliminer ces derniers. Le procédé peut en outre comprendre une étape de plasma supplémentaire consistant à éliminer tout matériau nouvellement formé pouvant résulter du plasma d'hydrocarbure. L'étape d'élimination peut être, par exemple, une étape ultérieure d'incinération au plasma. Dans un mode de réalisation, le mandrin est un mandrin électrostatique et les contaminants comprennent du fluor. L'élimination de contaminants de la surface du mandrin permet d'améliorer le démandrinage du substrat. Cette amélioration permet de manière correspondante une diminution de la rupture de substrat lors du retrait de substrats du mandrin.