DEVICE AND METHOD FOR EVAPORATING AN ORGANIC POWDER

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Verdampfen eines nicht gasförmigen Ausgangsmaterials, bei dem das Ausgangsmaterial in eine Verdampfungskammer (3) eines Verdampfer (1) gebracht wird, ein Verdampfungskörper (4) des Verdampfers (1) dem Ausgangsmaterial Wärme zuführt, sodass es zu einem Dampf verdampft, der Dampf mittels eines durch eine Gaszuleitung (9) in die Verdampfungskammer (3) eingespeisten Fördergasstroms, dessen Massenfluss von einem ersten Massenflusskontroller (10) geregelt wird, durch einen Förderkanal (7) an einem Sensor (8) vorbeitransportiert wird, der die Konzentration oder den Partialdruck des Dampfs im durch den Förderkanal (7) fließenden Gasstrom misst, und der Massenfluss des Dampfes durch den Förderkanal (7) durch Variation des Fördergasstroms gegen einen Sollwert geregelt wird. Um den von der Vorrichtung gelieferten Dampf-Fluss in höherem Maße zeitlich konstant zu halten, wird an einer zwischen Verdampfer und Sensor (8) angeordneten Mischstelle (18) ein Ausgleichsgasstrom in den Förderkanal (7) eingespeist, dessen Massenfluss von einem zweiten Massenflusskontroller (22) so geregelt wird, dass bei der Variation des Fördergasstroms der am Sensor (8) vorbeiströmende Gasstrom konstant bleibt. The invention relates to a device and a method for evaporating a non-gaseous starting material, in which method the starting material is introduced into an evaporation chamber (3) of an evaporator (1); an evaporation element (4) of the evaporator (1) supplies heat to the starting material such that it is evaporated to create a vapour; the vapour is transported by means of a conveying gas flow, which is fed through a gas supply line (9) into the evaporation chamber (3) and the mass flow of which is controlled by a first mass flow controller (10), through a conveying channel (7) and past a sensor (8), which measures the concentration or the partial pressure of the vapour in the gas flow flowing through the conveying channel (7); and the mass flow of the vapour through the conveying channel (7) is controlled by varying the conveying gas flow with respect to a setpoint value. In order to keep the vapour flow delivered by the device largely constant over time, a compensating gas flow is fed into the conveying channel (7) at a mixing point (18) arranged between the evaporator and the sensor (8), the mass flow of which compensating gas flow is controlled by a second mass flow controller (22) such that, when the conveying gas flow v