AN AQUEOUS BASIC ETCHING COMPOSITION FOR THE TREATMENT OF SURFACES OF METAL SUBSTRATES

The present invention is directed to an aqueous basic etching composition for the treatment of surfaces of metal substrates, the composition comprising: (a) functionalized urea, biuret and guanidine derivatives and/or salts thereof selected from the group comprising compounds having formulae (I) and (II) and/or salts thereof, wherein X and Y are independently selected from the group comprising oxygen, NRR' and NR5, wherein R, R' and R5 are independently selected from the group comprising R1, hydrogen, polyethylene glycols, aromatic compounds, and C1-C4 alkyl, wherein the aromatic compounds and C1-C4 alkyl optionally comprise at least one substituent selected as OR6, wherein R6 is selected from the group comprising hydrogen and C1-C4 alkyl, wherein X and Y can be identical or different; R1 and R2 are independently selected from the group comprising hydrogen, alkyl compounds, amines, and nitrogen-comprising heteroaromatic compounds, wherein R1 and R2 can be identical or different, with the proviso that R1 cannot be hydrogen, and with the proviso that in compounds having formula (I) R1 cannot be hydrogen or alkyl compound if X is oxygen; m is an integer from 1 to 4, preferably 3; and n is an integer from 0 to 8, preferably 2 to 4; wherein m and n can be identical or different; (b) an oxidizing agent for oxidizing the metals of the metal surface to be treated; and wherein the aqueous basic etching composition comprises a pH from 7.1 to 14. La présente invention concerne une composition de gravure basique aqueuse pour le traitement de surfaces de substrats métalliques. La composition contient : (a) des dérivés d'urée fonctionnalisée, de biuret et de guanidine et/ou des sels de ceux-ci sélectionnés dans le groupe contenant des composés ayant les formules (I) et (II) et/ou des sels de ceux-ci, X et Y étant sélectionnés de manière indépendante dans le groupe contenant l'oxygène, NRR' et NR5, R, R' et R5 étant sélectionnés de manière indépendante dans le groupe contenant R1, l'hydrogène, les polyéthylène glycols, les composés aromatiques et un alkyle C1-C4, les composés aromatiques et l'alkyle C1-C4 contenant éventuellement au moins un substituant sélectionné en tant que OR6, R6 étant sélectionné dans le groupe contenant l'hydrogène et un alkyle C1-C4, X et Y pouvant être identiques ou différents ; R1 et R2 étant sélectionnés de manière indépendante dans le groupe contenant l'hydrogène, les composés alkyliques, les amines et les composés hétéroaromatiques contenant