THERMALLY CONTROLLED LID STACK COMPONENTS

Exemplary substrate processing systems may include chamber body defining a transfer region. The systems may include a lid plate seated on the chamber body. The lid plate may define a first plurality of apertures through the lid plate and a second plurality of apertures through the lid plate. The systems may include a plurality of lid stacks equal to a number of apertures of the first plurality of apertures defined through the lid plate. Each lid stack of the plurality of lid stacks may include a choke plate seated on the lid plate along a first surface of the choke plate. The choke plate may define a first aperture axially aligned with an associated aperture of the first plurality of apertures. The choke plate may define a second aperture axially aligned with an associated aperture of the second plurality of apertures. L'invention concerne des exemples de systèmes de traitement de substrat qui peuvent comprendre un corps de chambre définissant une région de transfert. Les systèmes peuvent comprendre une plaque de couvercle placée sur le corps de chambre. La plaque de couvercle peut définir une première pluralité d'ouvertures à travers la plaque de couvercle et une seconde pluralité d'ouvertures à travers la plaque de couvercle. Les systèmes peuvent comprendre une pluralité d'empilements de couvercles égaux à un certain nombre d'ouvertures de la première pluralité d'ouvertures définies à travers la plaque de couvercle. Chaque empilement de couvercles de la pluralité d'empilements de couvercles peut comprendre une plaque d'étranglement placée sur la plaque de couvercle le long d'une première surface de la plaque d'étranglement. La plaque d'étranglement peut définir une première ouverture alignée axialement avec une ouverture associée de la première pluralité d'ouvertures. La plaque d'étranglement peut définir une seconde ouverture alignée axialement avec une ouverture associée de la seconde pluralité d'ouvertures.