GAS SUPPLY DEVICE

A gas supply device 1 according to one embodiment of the present invention is provided with a tank 10 storing a liquid, a liquid heater 20 for heating a liquid W stored in the tank 10, and a liquid level maintenance mechanism 30 for constantly maintaining the liquid level Wa of the liquid W stored in the tank 10 so as to be at a prescribed height H. The gas supply device 1 causes a processing gas which has been vaporized from the liquid W due to heating by the liquid heater 20 to flow out from the tank 10, thereby supplying the processing gas to a space to be supplied with or an object T to be supplied with. La présente invention concerne un dispositif de distribution de gaz 1 selon un mode de réalisation de la présente invention est pourvu d'un réservoir 10 stockant un liquide, un dispositif de chauffage de liquide 20 pour chauffer un liquide W stocké dans le réservoir 10, et un mécanisme de maintien de niveau de liquide 30 pour maintenir constamment le niveau de liquide Wa du liquide W stocké dans le réservoir 10 de façon à être à une hauteur prescrite H. Le dispositif de distribution de gaz 1 amène un gaz de traitement qui a été vaporisé à partir du liquide W en raison du chauffage par le dispositif de chauffage de liquide 20 à s'écouler hors du réservoir 10, de façon à distribuer le gaz de traitement dans un espace devant être alimenté ou un objet T devant être alimenté avec celui-ci. 一実施の形態によるガス供給装置１は、液体を貯留するタンク１０と、タンク１０に貯留された液体Ｗを加熱する液体用ヒータ２０と、タンク１０に貯留された液体Ｗの液面高さＷａを所定高さＨに常時維持する液面高さ維持機構３０と、を備える。ガス供給装置１は、液体用ヒータ２０の加熱により液体Ｗから気化した処理用ガスをタンク１０の外部に流出させ、供給対象空間又は供給対象物Ｔに供給する。